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公开(公告)号：CN110945437B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN201880049630.4
申请日：2018-07-18
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动，并且所述第二结构包括第二表面(417)，所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414)，所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口，所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
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公开(公告)号：CN110959139A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201880049631.9
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。
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公开(公告)号：CN110892333B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN109314069B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201780029700.5
申请日：2017-04-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 一种拾放工具，包括：多个可移动的保持器结构；以及多个拾放结构，每个保持器结构容纳两个或更多个拾放结构，其中每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的至少一个能够独立于所述每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的另外的至少一个，沿着所述每个保持器结构移动，并且其中每个拾放结构包括拾取元件，该拾取元件被配置为拾取施主结构处的施主部件并将施主部件置于受主结构。
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公开(公告)号：CN109314069A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780029700.5
申请日：2017-04-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 一种拾放工具，包括：多个可移动的保持器结构；以及多个拾放结构，每个保持器结构容纳两个或更多个拾放结构，其中每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的至少一个能够独立于所述每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的另外的至少一个，沿着所述每个保持器结构移动，并且其中每个拾放结构包括拾取元件，该拾取元件被配置为拾取施主结构处的施主部件并将施主部件置于受主结构。
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公开(公告)号：CN111344638A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201880073599.8
申请日：2018-11-07
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种载物台承载系统可以包括：载物台、耦接到载物台的空心轴、以及耦接到空心轴和载物台的内真空气体轴承组件。内真空气体轴承组件可以包括气体轴承、扫气槽和真空槽。气体轴承沿内真空气体轴承组件的内壁和空心轴的外壁设置。扫气槽沿所述内壁设置，使得扫气槽与气体轴承隔离。真空槽沿所述内壁设置，使得真空槽与扫气槽及气体轴承隔离。
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公开(公告)号：CN110892333A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN103091998B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201210405979.1
申请日：2012-10-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/687
CPC分类号： G03B27/60 , G03F7/707 , G03F7/7075
摘要： 一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。还提供了衬底处理方法，包括步骤：使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述方法包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧处夹紧衬底。
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公开(公告)号：CN111344638B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201880073599.8
申请日：2018-11-07
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种载物台承载系统可以包括：载物台、耦接到载物台的空心轴、以及耦接到空心轴和载物台的内真空气体轴承组件。内真空气体轴承组件可以包括气体轴承、扫气槽和真空槽。气体轴承沿内真空气体轴承组件的内壁和空心轴的外壁设置。扫气槽沿所述内壁设置，使得扫气槽与气体轴承隔离。真空槽沿所述内壁设置，使得真空槽与扫气槽及气体轴承隔离。
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公开(公告)号：CN109478025B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201780044896.5
申请日：2017-06-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·B·珍宁科 , L·J·A·凡鲍克霍文 , S·H·范德穆伦 , 黄仰山 , F·拉托雷 , 拜尔拉克·摩艾斯特 , S·C·J·A·凯吉 , E·范德布林克 , C·H·斯豪滕 , H·P·T·托尔斯马
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻设备，包括：支撑结构，所述支撑结构被构造成支撑图案形成装置和相关的表膜，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束；和投影系统，所述投影系统被配置成将所述图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上，其中所述支撑结构位于壳体中并且其中压力传感器位于所述壳体中。
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