公开(公告)号：CN112771446A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN201980063196.X

申请日：2019-08-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： A·尼基帕罗夫 ,  马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  E·W·F·卡西米里 ,  S·萨尔瓦多

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

摘要： 一种用于将粒子固定到表膜隔膜以供后续用于光刻设备中的系统，该系统包括配置成将粒子固定到表膜隔膜的粒子固定装置。粒子固定装置配置成引导电子束或辐射束，使得电子束或辐射束在入射于粒子上之前通过表膜隔膜。

公开(公告)号：CN108351586B

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN201680064044.8

申请日：2016-08-26

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Z·S·豪厄林 ,  E·W·F·卡西米里 ,  T·朱兹海妮娜 ,  保罗·詹森 ,  M·A·J·库伊肯 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  S·奥斯特霍夫 ,  玛丽亚·皮特 ,  威廉·琼·范德赞德 ,  彼得-詹·范兹沃勒 ,  B·L·M-J·K·韦伯罗根 ,  J·P·M·B·沃缪伦 ,  D·F·弗莱斯 ,  W-P·福尔蒂森

IPC分类号： G03F1/62

摘要： 一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区和围绕所述内部区的边框区；将所述叠层定位于支撑件上，使得曝光所述平坦衬底的所述内部区；和使用非液体蚀刻剂来选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成。

公开(公告)号：CN108351586A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201680064044.8

申请日：2016-08-26

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： Z·S·豪厄林 ,  E·W·F·卡西米里 ,  T·朱兹海妮娜 ,  保罗·詹森 ,  M·A·J·库伊肯 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  S·奥斯特霍夫 ,  玛丽亚·皮特 ,  威廉·琼·范德赞德 ,  彼得-詹·范兹沃勒 ,  B·L·M-J·K·韦伯罗根 ,  J·P·M·B·沃缪伦 ,  D·F·弗莱斯 ,  W-P·福尔蒂森

IPC分类号： G03F1/62

CPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/70983

摘要： 一种用于制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区和围绕所述内部区的边框区；将所述叠层定位于支撑件上，使得曝光所述平坦衬底的所述内部区；和使用非液体蚀刻剂来选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区，使得所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边框，所述边框由所述平坦衬底的所述边框区形成。