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公开(公告)号：CN101233454A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200680028086.2
申请日：2006-06-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , 迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 , 海考·维克特·考克 , 马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 , 坦摩·尤特迪基克 , 威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 , 约翰内斯·玛丽安·库普 , 利昂·范道仁 , 雅各布·桑尼威尔德 , 欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号：CN101253451B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200680028087.7
申请日：2006-06-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , 迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 , 海考·维克特·考克 , 马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 , 坦摩·尤特迪基克 , 威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 , 约翰内斯·玛丽安·库普 , 利昂·范道仁 , 雅各布·桑尼威尔德 , 欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号：CN101253451A
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200680028087.7
申请日：2006-06-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , 迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 , 海考·维克特·考克 , 马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 , 坦摩·尤特迪基克 , 威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 , 约翰内斯·玛丽安·库普 , 利昂·范道仁 , 雅各布·桑尼威尔德 , 欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号：CN114503034A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080068335.0
申请日：2020-09-21
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·萨菲诺斯基 , 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , A·N·兹德拉夫科夫
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种用于光刻设备的清洁装置(10)，所述清洁装置包括：辐射源(2)，所述辐射源被配置成供应能够从所述光刻系统的光学部件(IL；PS)或其它部件的表面去除水或其它污染物的净化辐射(8)；其中，所述清洁装置被配置成由在由所述光刻设备执行的曝光过程期间夹持图案形成装置的夹具(7)夹持。
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公开(公告)号：CN101233455A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200680028157.9
申请日：2006-06-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , 迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 , 海考·维克特·考克 , 马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 , 坦摩·尤特迪基克 , 威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 , 约翰内斯·玛丽安·库普 , 利昂·范道仁 , 雅各布·桑尼威尔德 , 欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号：CN113874788A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202080038359.1
申请日：2020-05-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , M·格拉姆 , H·J·M·梅杰 , J·A·范德布鲁克 , C·瓦格纳
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了一种可操作以向衬底的多个目标区域提供名义剂量辐射的光刻设备和关联方法。名义剂量辐射经过多次曝光被提供给衬底的多个目标区域中的每个目标区域。将名义剂量辐射提供给每个目标区域涉及使目标区域的第一区域曝光于辐射，而目标区域的第二部分未被曝光于辐射(第一部分和第二部分的形状和配置取决于被成像的图案)。每个目标区域的曝光次数是根据描述衬底的该目标区域响应于接收到热负载的机械行为的数据来确定的。热负载对应于在目标区域的第一部分被提供名义剂量辐射时接收的热负载。
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公开(公告)号：CN101233454B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200680028086.2
申请日：2006-06-13
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , 迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 , 海考·维克特·考克 , 马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 , 坦摩·尤特迪基克 , 威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 , 约翰内斯·玛丽安·库普 , 利昂·范道仁 , 雅各布·桑尼威尔德 , 欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。
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公开(公告)号：CN110945432B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN201880048782.2
申请日：2018-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·穆罕默迪 , 保罗·詹森 , 斯通扬·尼蒂安沃夫 , 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·N·兹德瑞乌卡夫
摘要： 用在光刻设备中或与光刻设备一起使用的光学隔膜(16)，该隔膜包括包括第一材料的第一层(18)，和包括第二材料的第二层(20)，所述第一层被布置在所述第二层上，其中所述第一材料和所述第二材料被选择为，使得空间电荷区(22)或耗尽区形成于所述隔膜中，所述空间电荷区或耗尽区在所述隔膜中感应出电场(E)。
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公开(公告)号：CN112771446A
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201980063196.X
申请日：2019-08-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： A·尼基帕罗夫 , 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , E·W·F·卡西米里 , S·萨尔瓦多
摘要： 一种用于将粒子固定到表膜隔膜以供后续用于光刻设备中的系统，该系统包括配置成将粒子固定到表膜隔膜的粒子固定装置。粒子固定装置配置成引导电子束或辐射束，使得电子束或辐射束在入射于粒子上之前通过表膜隔膜。
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公开(公告)号：CN110945432A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880048782.2
申请日：2018-06-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： V·穆罕默迪 , 保罗·詹森 , 斯通扬·尼蒂安沃夫 , 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 , 彼得-詹·范兹沃勒 , A·N·兹德瑞乌卡夫
摘要： 用在光刻设备中或与光刻设备一起使用的光学隔膜(16)，该隔膜包括包括第一材料的第一层(18)，和包括第二材料的第二层(20)，所述第一层被布置在所述第二层上，其中所述第一材料和所述第二材料被选择为，使得空间电荷区(22)或耗尽区形成于所述隔膜中，所述空间电荷区或耗尽区在所述隔膜中感应出电场(E)。
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