公开(公告)号：CN102981370A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201210292390.5

申请日：2012-08-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·G·C·昆尼 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  C·C·W·沃斯帕盖特 ,  R·范德哈姆 ,  I·A·J·托马斯 ,  M·霍本 ,  T·S·M·劳伦特 ,  G·M·M·考克兰 ,  R·H·M·J·布洛克斯 ,  G·彼得斯 ,  P·L·J·岗特尔 ,  M·J·里米 ,  S·C·R·德尔克斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341

摘要： 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。

公开(公告)号：CN102981370B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201210292390.5

申请日：2012-08-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·G·C·昆尼 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  C·C·W·沃斯帕盖特 ,  R·范德哈姆 ,  I·A·J·托马斯 ,  M·霍本 ,  T·S·M·劳伦特 ,  G·M·M·考克兰 ,  R·H·M·J·布洛克斯 ,  G·彼得斯 ,  P·L·J·岗特尔 ,  M·J·里米 ,  S·C·R·德尔克斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341

摘要： 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。

公开(公告)号：CN102129179A

公开(公告)日：2011-07-20

申请号：CN201010176682.3

申请日：2010-05-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： C·德麦特森阿尔 ,  R·C·昆斯特 ,  P·P·J·博克文斯 ,  M·G·E·斯尼德斯 ,  J·M·W·范德温凯尔 ,  G·M·M·考克兰

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03B27/52 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/7085

摘要： 本发明公开了一种浸没式光刻设备以及一种器件制造方法。所述浸没式光刻设备具有压强传感器，所述压强传感器配置成测量衬底和投影系统之间的空间内的浸没液体的压强。一控制系统响应于压强传感器产生的压强信号并且控制定位装置以施加力到所述衬底台、以补偿由浸没液体施加到衬底台上的力。