-
公开(公告)号:CN101021690B
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN200710005390.1
申请日:2007-02-14
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70716 , G03F7/70358 , G03F7/707
摘要: 一种光刻装置包括构造成支撑构图部件的支撑件。该构图部件能够给图案在其截面赋予辐射光束以形成带图案的辐射光束。该支撑件包括沿支撑件的移动方向将力施加在构图部件上的力致动器装置。该力致动器装置包括一活动部件,该活动部件可围绕一枢转轴枢转并由此与支撑件连接。该活动部件在支撑件的移动方向上相对于枢转轴基本上平衡。该力致动器装置还包括一致动器,其通过活动部件将力施加到构图部件上,由于支撑件沿移动方向的加速而至少部分地补偿滑动的信息或危险。
-
公开(公告)号:CN101021690A
公开(公告)日:2007-08-22
申请号:CN200710005390.1
申请日:2007-02-14
申请人: ASML荷兰有限公司
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70716 , G03F7/70358 , G03F7/707
摘要: 一种光刻装置包括构造成支撑构图部件的支撑件。该构图部件能够给图案在其截面赋予辐射光束以形成带图案的辐射光束。该支撑件包括沿支撑件的移动方向将力施加在构图部件上的力致动器装置。该力致动器装置包括一活动部件,该活动部件可围绕一枢转轴枢转并由此与支撑件连接。该活动部件在支撑件的移动方向上相对于枢转轴基本上平衡。该力致动器装置还包括一致动器,其通过活动部件将力施加到构图部件上,由于支撑件沿移动方向的加速而至少部分地补偿滑动的信息或危险。
-