公开(公告)号：CN101021690A

公开(公告)日：2007-08-22

申请号：CN200710005390.1

申请日：2007-02-14

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： F·M·雅格布斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德斯库特 ,  A·F·巴克 ,  A·M·范德韦尔 ,  K·F·布斯特拉安 ,  M·K·M·巴根

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

摘要： 一种光刻装置包括构造成支撑构图部件的支撑件。该构图部件能够给图案在其截面赋予辐射光束以形成带图案的辐射光束。该支撑件包括沿支撑件的移动方向将力施加在构图部件上的力致动器装置。该力致动器装置包括一活动部件，该活动部件可围绕一枢转轴枢转并由此与支撑件连接。该活动部件在支撑件的移动方向上相对于枢转轴基本上平衡。该力致动器装置还包括一致动器，其通过活动部件将力施加到构图部件上，由于支撑件沿移动方向的加速而至少部分地补偿滑动的信息或危险。

公开(公告)号：CN101021691B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200710005707.1

申请日：2007-02-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德肖特 ,  F·M·雅格布斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： 在第一侧使用第一夹持装置，在不同于第一侧的第二侧使用第二夹持装置来夹持光刻设备中的掩模。优选使用薄膜片施加夹持力。第一夹具沿平行于构图装置的平面的方向、垂直于构图装置的平面的方向并可旋转地夹持衬底。第二夹持装置仅沿平行于衬底的平面的方向夹持构图装置。

公开(公告)号：CN101021690B

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN200710005390.1

申请日：2007-02-14

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： F·M·雅格布斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德斯库特 ,  A·F·巴克 ,  A·M·范德韦尔 ,  K·F·布斯特拉安 ,  M·K·M·巴根

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/707

摘要： 一种光刻装置包括构造成支撑构图部件的支撑件。该构图部件能够给图案在其截面赋予辐射光束以形成带图案的辐射光束。该支撑件包括沿支撑件的移动方向将力施加在构图部件上的力致动器装置。该力致动器装置包括一活动部件，该活动部件可围绕一枢转轴枢转并由此与支撑件连接。该活动部件在支撑件的移动方向上相对于枢转轴基本上平衡。该力致动器装置还包括一致动器，其通过活动部件将力施加到构图部件上，由于支撑件沿移动方向的加速而至少部分地补偿滑动的信息或危险。

公开(公告)号：CN101021691A

公开(公告)日：2007-08-22

申请号：CN200710005707.1

申请日：2007-02-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： B·A·J·卢蒂克休斯 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  H·K·范德肖特 ,  F·M·雅格布斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： 在第一侧使用第一夹持装置，在不同于第一侧的第二侧使用第二夹持装置来夹持光刻设备中的掩模。优选使用薄膜片施加夹持力。第一夹具沿平行于构图装置的平面的方向、垂直于构图装置的平面的方向并可旋转地夹持衬底。第二夹持装置仅沿平行于衬底的平面的方向夹持构图装置。