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    光刻装置和器件制造方法
    1.
    发明授权
    光刻装置和器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN1987662B

    公开(公告)日：2013-08-14

    申请号：CN200610170159.3

    申请日：2006-12-22

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  B·A·J·卢蒂克休斯

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70741 ,  G03F7/70733

    摘要： 一种光刻装置，包括配置成调节辐射光束的照明系统，将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件，该构图部件对辐射光束构图，保持基底的基底台；将图形化光束投影到基底上的投影系统，和交换装置，该交换装置用于在投影过程中与保持可交换对象的可交换对象支撑件交换可交换对象。该交换装置包括装载单元和卸载单元，每一装载单元和卸载单元都具有保持可交换对象的保持装置。该保持装置大体上彼此相邻地定位并配置成使可交换对象保持在与一平面大体上平行的平面中，其中可交换对象在投影过程中保持在可交换对象支撑件中。该可交换对象支撑件与每一保持装置交换可交换对象。

    光刻装置和器件制造方法
    3.
    发明公开
    光刻装置和器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN101038442A

    公开(公告)日：2007-09-19

    申请号：CN200710085565.4

    申请日：2007-03-12

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  E·A·F·范德帕施

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70341

    摘要： 一种光刻装置包括：液体限制系统，用于将液体限制在投影系统的最末元件和基底之间的空间内；以及第一和第二基底平台，各基底平台设置成相互配合以便进行联合移动，用于使得光刻装置从第一状态朝着第二状态变化，在该第一状态中，该液体被限制在由第一基底平台保持的第一基底和该最末元件之间，而在第二状态中，该液体被限制在由第二基底平台保持的第二基底和最末元件之间；这样，在该联合移动过程中，该液体基本上被限制在与该最末元件相关的该空间中。该装置还包括位置测量系统，它设置成至少在该联合移动过程中测量第一基底平台和第二基底平台的位置。

    光刻装置和器件制造方法
    9.
    发明公开
    光刻装置和器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN1987662A

    公开(公告)日：2007-06-27

    申请号：CN200610170159.3

    申请日：2006-12-22

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  B·A·J·卢蒂克休斯

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70741 ,  G03F7/70733

    摘要： 一种光刻装置，包括配置成调节辐射光束的照明系统，将构图部件支撑在投影平面中的构图部件支撑件，该构图部件对辐射光束构图，保持基底的基底台；将图形化光束投影到基底上的投影系统，和交换装置，该交换装置用于在投影过程中与保持可交换对象的可交换对象支撑件交换可交换对象。该交换装置包括装载单元和卸载单元，每一装载单元和卸载单元都具有保持可交换对象的保持装置。该保持装置大体上彼此相邻地定位并配置成使可交换对象保持在与一平面大体上平行的平面中，其中可交换对象在投影过程中保持在可交换对象支撑件中。该可交换对象支撑件与每一保持装置交换可交换对象。