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公开(公告)号：CN104350427A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380031081.5
申请日：2013-06-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·A·C·M·比伦斯 , A·B·热因克 , M·M·J·范德瓦尔 , W·H·T·M·安格南特 , R·H·A·范莱肖特 , H·M·J·范德格罗伊斯 , S·W·范德霍伊文
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70783
Abstract: 提供了一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统。定位系统包括支架(210)，位置测量装置，形变传感器(250；DS)和处理器(PU)。构造支架以保持物体。配置位置测量装置以测量支架的位置。位置测量装置包括至少一个位置传感器目标(100.1、100.2、100.3)以及用于与至少一个位置传感器目标协作以提供表示支架位置的位置信号的冗余集合的多个位置传感器(200.1、200.2；SA)。设置形变传感器以提供表示支架和位置测量装置之一形变的形变信号(S)。配置处理器以基于形变信号和位置信号的冗余集合而校准位置测量装置和形变传感器之一。
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公开(公告)号：CN111052296B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN201880057197.9
申请日：2018-08-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·K·M·巴格根 , A·H·阿伦茨 , L·库因德尔斯玛 , J·H·A·范德里杰特 , P·P·亨佩尼尤斯 , R·J·T·范肯彭 , N·J·M·博世 , H·M·J·范德格罗伊斯 , 曾国峰 , H·巴特勒 , M·J·C·龙德
IPC: H01J37/20
Abstract: 一种电子束设备包括：用于生成电子束的电子光学系统；用于将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及用于将载物台相对于电子束移位的定位装置。定位装置包括台架致动器和平衡质量体。台架致动器将力施加到载物台上来使得载物台加速。施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力。平衡质量体响应于反作用力而移动。定位装置使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。
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公开(公告)号：CN110419005A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201880018420.9
申请日：2018-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼尤斯 , M·K·M·巴格根 , T·J·德霍格 , S·朱莉安娜 , H·M·J·范德格罗伊斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种平台系统和一种包括至少一个这样的平台系统的量测装置。平台系统包括用于保持物体的平台载体和用于使平台载体位移的平台载体定位致动器。平台系统还包括用于抵消平台载体的位移的平衡质量块、以及用于使平衡质量块移位的平衡质量块定位致动器。电缆装置连接到平台载体用于向上述平台载体提供至少电力。平台系统可操作以向平衡质量块施加补偿前馈力，该补偿前馈力补偿由电缆装置施加的电缆装置力。
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公开(公告)号：CN112055885B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN201980029412.9
申请日：2019-04-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼乌斯 , S·A·J·霍尔 , M·F·J·克里梅斯 , H·M·J·范德格罗伊斯 , N·J·M·博世 , M·K·M·巴格根
IPC: H01J37/20
Abstract: 公开了一种电子束装置，该工具包括被配置为将电子束投射到对象上的电子光学系统(500)，用于保持该对象的载物台，和被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台(520)的定位器件(510)。该定位器件包括被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台的短冲程平台(512)和被配置为相对于该电子光学系统移动该短冲程平台的长冲程平台(511)。该电子束装置进一步包括磁屏蔽(540)，用于屏蔽该电子光学系统免于被该定位器件生成的磁扰动所影响。该磁屏蔽包括可移动磁屏蔽，该可移动磁屏蔽被连接至要被定位器件移动的部分。该磁屏蔽可以被布置在该定位器件和该电子光学系统之间。
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公开(公告)号：CN110419005B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201880018420.9
申请日：2018-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼尤斯 , M·K·M·巴格根 , T·J·德霍格 , S·朱莉安娜 , H·M·J·范德格罗伊斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种平台系统和一种包括至少一个这样的平台系统的量测装置。平台系统包括用于保持物体的平台载体和用于使平台载体位移的平台载体定位致动器。平台系统还包括用于抵消平台载体的位移的平衡质量块、以及用于使平衡质量块移位的平衡质量块定位致动器。电缆装置连接到平台载体用于向上述平台载体提供至少电力。平台系统可操作以向平衡质量块施加补偿前馈力，该补偿前馈力补偿由电缆装置施加的电缆装置力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108700834B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201780015501.9
申请日：2017-02-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·M·M·德维特 , K·G·菲金 , A·J·C·斯基本 , M·玛森 , H·M·J·范德格罗伊斯
Abstract: 公开了一种用于量测装置的照射系统和一种包括这种照射系统的量测装置。照射系统包括照射源；以及线性可变滤波器装置，被配置为对来自上述照射源的辐射束进行滤波并且包括一个或多个线性可变滤波器。照射系统可操作用于在辐射束被线性可变滤波器装置滤波之后进行对辐射束的波长特性的选择性控制。
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公开(公告)号：CN112055885A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN201980029412.9
申请日：2019-04-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼乌斯 , S·A·J·霍尔 , M·F·J·克里梅斯 , H·M·J·范德格罗伊斯 , N·J·M·博世 , M·K·M·巴格根
IPC: H01J37/20
Abstract: 公开了一种电子束装置，该工具包括被配置为将电子束投射到对象上的电子光学系统(500)，用于保持该对象的载物台，和被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台(520)的定位器件(510)。该定位器件包括被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台的短冲程平台(512)和被配置为相对于该电子光学系统移动该短冲程平台的长冲程平台(511)。该电子束装置进一步包括磁屏蔽(540)，用于屏蔽该电子光学系统免于被该定位器件生成的磁扰动所影响。该磁屏蔽可以被布置在该定位器件和该电子光学系统之间。
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公开(公告)号：CN111052296A
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201880057197.9
申请日：2018-08-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·K·M·巴格根 , A·H·阿伦茨 , L·库因德尔斯玛 , J·H·A·范德里杰特 , P·P·亨佩尼尤斯 , R·J·T·范肯彭 , N·J·M·博世 , H·M·J·范德格罗伊斯 , 曾国峰 , H·巴特勒 , M·J·C·龙德
IPC: H01J37/20
Abstract: 一种电子束设备包括：用于生成电子束的电子光学系统；用于将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及用于将载物台相对于电子束移位的定位装置。定位装置包括台架致动器和平衡质量体。台架致动器将力施加到载物台上来使得载物台加速。施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力。平衡质量体响应于反作用力而移动。定位装置使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。
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公开(公告)号：CN108700834A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780015501.9
申请日：2017-02-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·M·M·德维特 , K·G·菲金 , A·J·C·斯基本 , M·玛森 , H·M·J·范德格罗伊斯
Abstract: 公开了一种用于量测装置的照射系统和一种包括这种照射系统的量测装置。照射系统包括照射源；以及线性可变滤波器装置，被配置为对来自上述照射源的辐射束进行滤波并且包括一个或多个线性可变滤波器。照射系统可操作用于在辐射束被线性可变滤波器装置滤波之后进行对辐射束的波长特性的选择性控制。
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公开(公告)号：CN104350427B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201380031081.5
申请日：2013-06-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·A·C·M·比伦斯 , A·B·热因克 , M·M·J·范德瓦尔 , W·H·T·M·安格南特 , R·H·A·范莱肖特 , H·M·J·范德格罗伊斯 , S·W·范德霍伊文
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70775 , G03F7/70783
Abstract: 提供了一种用于在光刻设备中定位物体的定位系统。定位系统包括支架(210)，位置测量装置，形变传感器(250；DS)和处理器(PU)。构造支架以保持物体。配置位置测量装置以测量支架的位置。位置测量装置包括至少一个位置传感器目标(100.1、100.2、100.3)以及用于与至少一个位置传感器目标协作以提供表示支架位置的位置信号的冗余集合的多个位置传感器(200.1、200.2；SA)。设置形变传感器以提供表示支架和位置测量装置之一形变的形变信号(S)。配置处理器以基于形变信号和位置信号的冗余集合而校准位置测量装置和形变传感器之一。
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