公开(公告)号：CN112055885B

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN201980029412.9

申请日：2019-04-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·P·亨佩尼乌斯 ,  S·A·J·霍尔 ,  M·F·J·克里梅斯 ,  H·M·J·范德格罗伊斯 ,  N·J·M·博世 ,  M·K·M·巴格根

IPC: H01J37/20

Abstract: 公开了一种电子束装置，该工具包括被配置为将电子束投射到对象上的电子光学系统(500)，用于保持该对象的载物台，和被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台(520)的定位器件(510)。该定位器件包括被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台的短冲程平台(512)和被配置为相对于该电子光学系统移动该短冲程平台的长冲程平台(511)。该电子束装置进一步包括磁屏蔽(540)，用于屏蔽该电子光学系统免于被该定位器件生成的磁扰动所影响。该磁屏蔽包括可移动磁屏蔽，该可移动磁屏蔽被连接至要被定位器件移动的部分。该磁屏蔽可以被布置在该定位器件和该电子光学系统之间。

公开(公告)号：CN112055885A

公开(公告)日：2020-12-08

申请号：CN201980029412.9

申请日：2019-04-23

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·P·亨佩尼乌斯 ,  S·A·J·霍尔 ,  M·F·J·克里梅斯 ,  H·M·J·范德格罗伊斯 ,  N·J·M·博世 ,  M·K·M·巴格根

IPC: H01J37/20

Abstract: 公开了一种电子束装置，该工具包括被配置为将电子束投射到对象上的电子光学系统(500)，用于保持该对象的载物台，和被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台(520)的定位器件(510)。该定位器件包括被配置为相对于该电子光学系统移动该载物台的短冲程平台(512)和被配置为相对于该电子光学系统移动该短冲程平台的长冲程平台(511)。该电子束装置进一步包括磁屏蔽(540)，用于屏蔽该电子光学系统免于被该定位器件生成的磁扰动所影响。该磁屏蔽可以被布置在该定位器件和该电子光学系统之间。

公开(公告)号：CN119404284A

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN202380048523.0

申请日：2023-07-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·A·乌姆斯 ,  N·弗奇尔 ,  N·J·M·博世 ,  V·S·凯珀 ,  P·P·亨佩尼乌斯 ,  S·W·H·K·斯蒂恩布林克 ,  E·斯洛特

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/28 ,  H01J37/26 ,  H01J37/21 ,  G03F9/00

Abstract: 公开了用于获得关于样品表面的形貌信息的设备和方法。在一种布置中，感测系统包括用于测量样品表面的相应部分的位置的一组近端传感器、以及比近端传感器更远离多束的子束路径定位的远端传感器。远端传感器测量样品表面的一部分相对于远端传感器的位置。控制系统控制带电粒子设备以使用多束在可多束处理的区域中处理样品表面。一个阶段使得可多束处理的区域沿着样品的参考系中的处理路径移动。在可多束处理的区域到达处理路径的选定部分之前，感测系统至少使用远端传感器来在处理路径的选定部分中的获得关于样品表面的形貌信息。