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公开(公告)号：CN111213219B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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公开(公告)号：CN110419005B
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN201880018420.9
申请日：2018-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼尤斯 , M·K·M·巴格根 , T·J·德霍格 , S·朱莉安娜 , H·M·J·范德格罗伊斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种平台系统和一种包括至少一个这样的平台系统的量测装置。平台系统包括用于保持物体的平台载体和用于使平台载体位移的平台载体定位致动器。平台系统还包括用于抵消平台载体的位移的平衡质量块、以及用于使平衡质量块移位的平衡质量块定位致动器。电缆装置连接到平台载体用于向上述平台载体提供至少电力。平台系统可操作以向平衡质量块施加补偿前馈力，该补偿前馈力补偿由电缆装置施加的电缆装置力。
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公开(公告)号：CN113272933B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN201980082404.0
申请日：2019-11-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·H·A·范德里杰特 , P·P·亨佩尼尤斯 , A·E·库伊克 , J·古森斯 , P·W·威利舒维斯
IPC: H01J37/20
Abstract: 公开了台架设备，包括：物体支撑件，被配置为支撑物体；定位装置，被配置为定位物体支撑件；第一连接布置，被配置为将物体支撑件连接到定位装置，第一连接布置包括至少一个阻尼连接件；以及第二连接布置，被配置为将物体支撑件连接到定位装置，第二连接布置包括至少一个基本刚性的连接件。
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公开(公告)号：CN118251747A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202280075606.4
申请日：2022-10-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 用于减少腔室的振动的系统、装置和方法可以包括：获得与被刚性耦合到腔室的传送设备相关联的预定义运动数据；在传送设备移动之前，基于预定义运动数据来确定传送设备的移动；基于移动来确定由移动引起的要被施加到腔室的第一力；并且使腔室的支撑设备在传送设备移动时向腔室施加第二力以抵消第一力。
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公开(公告)号：CN111213219A
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118318284A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202280078945.8
申请日：2022-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文公开了一种用于带电粒子装置的平台，该平台包括：基架；腔室，其被布置为包括衬底；计量框架，其被布置为支撑带电粒子束生成器，用于用带电粒子束照射腔室中的衬底；以及波纹管，其被布置在计量框架和腔室之间；其中：腔室刚性地连接到基架；波纹管包括弹性材料，使得计量框架与腔室中产生的任何振动基本上隔离；并且波纹管是气密的，使得可以在腔室中建立实质的真空。
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公开(公告)号：CN111052296B
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN201880057197.9
申请日：2018-08-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·K·M·巴格根 , A·H·阿伦茨 , L·库因德尔斯玛 , J·H·A·范德里杰特 , P·P·亨佩尼尤斯 , R·J·T·范肯彭 , N·J·M·博世 , H·M·J·范德格罗伊斯 , 曾国峰 , H·巴特勒 , M·J·C·龙德
IPC: H01J37/20
Abstract: 一种电子束设备包括：用于生成电子束的电子光学系统；用于将样本保持在目标位置，使得样本的目标部分被电子束照射的载物台；以及用于将载物台相对于电子束移位的定位装置。定位装置包括台架致动器和平衡质量体。台架致动器将力施加到载物台上来使得载物台加速。施加到载物台上的力导致施加到平衡质量体上的反作用力。平衡质量体响应于反作用力而移动。定位装置使得平衡质量体能够响应于反作用力在第一方向上的分量而在第一方向上移动。
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公开(公告)号：CN110419005A
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201880018420.9
申请日：2018-02-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·P·亨佩尼尤斯 , M·K·M·巴格根 , T·J·德霍格 , S·朱莉安娜 , H·M·J·范德格罗伊斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种平台系统和一种包括至少一个这样的平台系统的量测装置。平台系统包括用于保持物体的平台载体和用于使平台载体位移的平台载体定位致动器。平台系统还包括用于抵消平台载体的位移的平衡质量块、以及用于使平衡质量块移位的平衡质量块定位致动器。电缆装置连接到平台载体用于向上述平台载体提供至少电力。平台系统可操作以向平衡质量块施加补偿前馈力，该补偿前馈力补偿由电缆装置施加的电缆装置力。
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公开(公告)号：CN118946949A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202380029575.3
申请日：2023-03-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/20 , H01L21/683 , H01J37/26 , H01J37/30
Abstract: 提供了用于将带电粒子束装置中的晶片(604；904)接地的系统和方法。该系统和方法包括在晶片上的背面膜(608；908)中提供足够大小的排除区域(613；911)，以允许晶片与带电粒子束装置的电触头(612；912)之间进行电连接。该系统和方法包括使引脚体接触晶片的表面，并且晶片的表面具有涂层，并且引脚体包括第一尖端和第二尖端，每个尖端从引脚体延伸；其中该接触通过第一尖端、第二尖端或它们的任何组合中的任一者在涂层的第一排除区域处发生。还提供了一种用于在晶片表面上形成涂层的方法，包括用第一排除掩模来遮蔽晶片表面上的第一排除区域。
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公开(公告)号：CN118266055A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280074777.5
申请日：2022-10-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于向样品投射带电粒子束的带电粒子评估系统。该系统包括：被配置为保持样品的样品保持器；带电粒子光学系统，其被配置为将来自带电粒子源的带电粒子束向下游朝样品投射并且包括清洁目标；以及清洁装置。清洁装置被配置为向清洁目标供应入射在清洁目标上的清洁流中的清洁介质，使得清洁流从清洁目标的下游接近清洁目标，并且在清洁目标处或附近激发清洁介质，使得清洁介质清洁清洁目标的表面的至少一部分。
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