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公开(公告)号：CN109863456B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780065318.X
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN109863456A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201780065318.X
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN113406865B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202110757769.8
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
IPC分类号： G03F7/20 , G05B19/418 , G05B19/18
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN113406865A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110757769.8
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
IPC分类号： G03F7/20 , G05B19/418 , G05B19/18
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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