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公开(公告)号：CN113168116B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201980079801.2
申请日：2019-11-04
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 描述了一种用于确定影响在衬底上制造器件的过程中的产率的根本原因的方法，该方法包括：获得产率分布数据，产率分布数据包括产率参数在整个衬底或其一部分上的分布；获得量测数据的集合，每个集合包括在整个衬底或其一部分上与衬底的不同层相对应的过程参数的空间变化；基于相似度度量来比较产率分布数据和量测数据，相似度度量描述产率分布数据与量测数据的集合中的单独集合之间的空间相似度；从测量数据组中确定量测数据的第一相似集合，就对应层的处理顺序而言，量测数据的第一相似集合是量测数据的第一集合，量测数据的第一相似集合被确定为与产率分布数据相似。
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公开(公告)号：CN109863456B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780065318.X
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN109863456A
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201780065318.X
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN111670445B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN201980011358.5
申请日：2019-01-22
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 在过程步骤之前，基于与衬底相关联的预处理数据(404)来对待处理衬底(402)进行分割。使用分割规则(410、412、414)来对数据进行分割，并且根据通过分割而获得的数据的子集将衬底分割为子集(G1‑G4)。应用了针对每个子集特定的校正(COR1‑COR4)。使用对衬底的训练集(502)的决策树分析来获得分割规则(图5)。所述决策树分析使用在处理前与所述训练衬底相关联的预处理数据(256、260)，以及在经受所述过程步骤之后与训练衬底相关联的后处理数据(262)。基于后处理数据的子集的特性，从多个分割规则(512)中选择出限定所述决策树的分割规则(506)。同时隐含地获得相关联的校正(508)。
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公开(公告)号：CN110100207B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201780079879.5
申请日：2017-11-23
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。
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公开(公告)号：CN111033387B
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN201880052659.8
申请日：2018-07-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明披露了一种用于校正在图案化衬底的过程中使用的一个或更多个前馈参数的值的方法，所述方法包括：获得形成图案后的衬底的被测量的重叠和/或对准误差数据；依赖于所述被测量的重叠和/或对准误差数据来计算用于所述一个或更多个前馈参数的一个或更多个校正值。
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公开(公告)号：CN113168116A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079801.2
申请日：2019-11-04
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 描述了一种用于确定影响在衬底上制造器件的过程中的产率的根本原因的方法，该方法包括：获得产率分布数据，产率分布数据包括产率参数在整个衬底或其一部分上的分布；获得量测数据的集合，每个集合包括在整个衬底或其一部分上与衬底的不同层相对应的过程参数的空间变化；基于相似度度量来比较产率分布数据和量测数据，相似度度量描述产率分布数据与量测数据的集合中的单独集合之间的空间相似度；从测量数据组中确定量测数据的第一相似集合，就对应层的处理顺序而言，量测数据的第一相似集合是量测数据的第一集合，量测数据的第一相似集合被确定为与产率分布数据相似。
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公开(公告)号：CN113406865B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202110757769.8
申请日：2017-09-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 寇伟田 , A·伊普玛 , M·豪普特曼 , M·屈珀斯 , L·M·韦尔甘-于泽 , E·J·M·瓦勒博斯 , E·H·A·德尔维涅 , W·S·C·勒洛夫斯 , H·E·采克利 , S·C·T·范德山登 , C·D·格乌斯塔 , D·F·S·德克尔 , M·焦洛 , I·多夫博什
IPC分类号： G03F7/20 , G05B19/418 , G05B19/18
摘要： 公开了一种确定与衬底上的光刻过程相关的过程参数的校正的方法和相关联的设备。所述光刻过程包括多次运行，在多次运行中的每一次运行期间将图案施加到一个或更多个衬底。所述方法包括获得用于描述所述衬底的属性的曝光前的量测数据；获得曝光后的量测数据，所述曝光后的量测数据包括已经对一个或更多个先前曝光的衬底执行的过程参数的一个或更多个测量值；基于所述曝光前的量测数据，将来自一个或更多个组的组员关系状态分配给所述衬底；和基于所述组员关系状态和所述曝光后的量测数据确定所述过程参数的校正。
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公开(公告)号：CN116300350A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310275006.9
申请日：2017-11-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00 , G01N21/956 , G03F7/20
摘要： 本发明提供一种用于确定涉及衬底的特征的位置的方法、系统和程序。所述方法包括：测量所述特征的位置；接收所述特征的预期方位；和基于对涉及衬底上的第一层的第一参考特征相对于涉及衬底上的第二层的第二参考特征的相对位置的知晓来确定置放误差的估计。可使用更新位置来定位包括所述特征的所述衬底的所述层，或所述衬底的另一层，或另一衬底的另一层。本发明也提供一种用于控制衬底的定位的方法、系统和程序。
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公开(公告)号：CN110785707B
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN201880040055.1
申请日：2018-05-07
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G05B19/418 , H01L21/66
摘要： 一种器件制造方法，所述方法包括：获得已经执行曝光步骤和过程步骤的多个衬底的测量数据时间序列；获得与主要在对所述多个衬底中的至少部分执行所述过程步骤时的条件相关的状态数据时间序列；对所述测量数据时间序列和所述状态数据时间序列应用滤波器以获得被滤波的数据；和使用所述被滤波的数据确定将要对后续衬底执行的曝光步骤中施加的校正。
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