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公开(公告)号：CN119480595A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411568129.2
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN111418040B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN201880077222.X
申请日：2018-11-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·沙克德 , M·G·M·J·玛森
IPC: H01J37/28 , H01J37/04 , H01J37/244
Abstract: 公开了用于进行带电粒子束调制的系统和方法。根据某些实施例，一种带电粒子束装置为接收多个带电粒子束并且生成多个经调制的带电粒子束。检测器(541)被配置为接收多个经调制的带电粒子束。(510)生成多个带电粒子束。调制器(800)被配置
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公开(公告)号：CN111418040A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201880077222.X
申请日：2018-11-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·沙克德 , M·G·M·J·玛森
IPC: H01J37/28 , H01J37/04 , H01J37/244
Abstract: 公开了用于进行带电粒子束调制的系统和方法。根据某些实施例，一种带电粒子束装置(510)生成多个带电粒子束。调制器(800)被配置为接收多个带电粒子束并且生成多个经调制的带电粒子束。检测器(541)被配置为接收多个经调制的带电粒子束。
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公开(公告)号：CN112352301B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN201980039657.X
申请日：2019-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种改进的用于使用粒子束检查装置检查样品的系统和方法，更具体地，一种利用多个带电粒子束扫描样品的系统和方法。一种使用N个带电粒子束扫描样品区域的改进的方法，其中N是大于或等于2的整数，并且其中样品区域包括N个连续扫描线的多个扫描区段，该方法包括使样品在第一方向上移动。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第一带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第一带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第一扫描线。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第二带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第二带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第二扫描线。此外，一种提供多束工具，包括：束配置系统，包括被配置为生成带电粒子的一次束的带电粒子源、被配置为保持样品的载物台、以及位于带电粒子源与载物台之间配置成将一次束分成束阵列的偏转器系统；其中所述束配置系统被配置为提供旋转束配置，所述旋转束配置具有基于所述束阵列的行中的束数量而确定的旋转角度。
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公开(公告)号：CN111213219B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112352301A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201980039657.X
申请日：2019-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种改进的用于使用粒子束检查装置检查样品的系统和方法，更具体地，一种利用多个带电粒子束扫描样品的系统和方法。一种使用N个带电粒子束扫描样品区域的改进的方法，其中N是大于或等于2的整数，并且其中样品区域包括N个连续扫描线的多个扫描区段，该方法包括使样品在第一方向上移动。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第一带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第一带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第一扫描线。该方法还包括利用N个带电粒子束中的第二带电粒子束扫描多个扫描区段中朝向第二带电粒子束的探测斑点移动的至少部分扫描区段的第二扫描线。此外，一种提供多束工具，包括：束配置系统，包括被配置为生成带电粒子的一次束的带电粒子源、被配置为保持样品的载物台、以及位于带电粒子源与载物台之间配置成将一次束分成束阵列的偏转器系统；其中所述束配置系统被配置为提供旋转束配置，所述旋转束配置具有基于所述束阵列的行中的束数量而确定的旋转角度。
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公开(公告)号：CN119170471A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411313436.6
申请日：2019-06-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本公开涉及用于使用多束检查装置扫描样品的系统和方法。一种多束工具，包括：束配置系统，包括被配置为生成带电粒子的一次束的带电粒子源、被配置为保持样品的载物台、以及位于带电粒子源与载物台之间配置成将一次束分成束阵列的偏转器系统；其中所述束配置系统被配置为提供旋转束配置，所述旋转束配置具有基于所述束阵列的行中的束数量而确定的旋转角度。
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公开(公告)号：CN113892165B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN113892165A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202080039403.0
申请日：2020-05-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 任伟明 , 刘学东 , 胡学让 , 陈仲玮 , M·G·M·J·玛森
Abstract: 公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
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公开(公告)号：CN111213219A
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN201880060710.X
申请日：2018-09-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·J·玛森 , P·P·亨佩尼尤斯 , 任伟明 , 陈仲玮
Abstract: 一种带电粒子束装置包括子束形成单元，该子束形成单元被配置为在样品(440)上形成子束阵列(410)并且对其进行扫描。子束阵列的第一部分被聚焦到焦平面(430)上，并且子束阵列的第二部分具有至少一个子束，该至少一个子束相对于焦平面具有离焦水平(490)。该带电粒子束装置还包括检测器，其被配置为检测由子束阵列形成的样品的图像；以及处理器，其被配置为基于检测的图像来估计焦平面与样品之间的分隔水平，并且然后基于估计水平来减小分隔水平。
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