公开(公告)号：CN116368597A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202180064683.5

申请日：2021-09-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： O·克鲁宾 ,  任伟明 ,  胡学让 ,  刘学东

IPC: H01J37/21

Abstract: 一种操作带电粒子束装置的次级成像系统的方法可以包括使用反扫描模式。次级成像系统的组件的激励可以与初级扫描偏转单元同步地被调节。与执行反扫描的反扫描偏转单元一起，可以同步调节次级成像系统的组件，诸如透镜。当扫描和反扫描被执行时，组件的激励参数也可以不断更新。

公开(公告)号：CN110352469B

公开(公告)日：2023-05-02

申请号：CN201780081259.5

申请日：2017-12-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/141 ,  H01J37/145 ,  H01J37/317

Abstract: 本公开提出一种防旋转透镜，并将其用作具有预子射束形成机构的多射束装置中的防旋转聚光透镜。防旋转聚光透镜在改变其电流时保持子射束的旋转角度不变，从而使得预子射束形成机构能够尽可能多地阻断未使用的电子。以这种方式，多射束装置可以以高分辨率和高吞吐量观察样本，并且能够用作检查和/或查看半导体制造工业中的晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具。

公开(公告)号：CN115917698A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180042316.5

申请日：2021-06-03

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·奥滕 ,  P-P·克兰斯 ,  M·斯米茨 ,  L·德尔·廷 ,  C·泰武尼森 ,  Y-S·黄 ,  S·W·H·K·斯蒂恩布林克 ,  胡学让 ,  席庆坡 ,  罗希楠 ,  刘学东

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/18

Abstract: 本文所公开的是一种用于支撑被配置为操纵带电粒子设备中的带电粒子路径的装置的模块，该模块包括：被配置为支撑该装置的支撑布置，其中该装置被配置为操纵带电粒子设备内的带电粒子路径；以及被配置为在模块内移动支撑布置的支撑定位系统；其中模块被布置为在带电粒子设备中是现场可更换的。

公开(公告)号：CN113646865A

公开(公告)日：2021-11-12

申请号：CN202080025519.9

申请日：2020-03-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/09

Abstract: 公开了一种支持多种操作模式的多束检查设备。支持多种操作模式的用于检查样品的带电粒子束设备包括被配置为沿着主光轴发射带电粒子束的带电粒子束源、在第一位置与第二位置之间能够移动的可移动孔板、以及控制器，控制器具有电路系统并且被配置为改变该设备的配置以在第一模式与第二模式之间进行切换。在第一模式下，可移动孔板位于第一位置并且被配置为允许源自带电粒子束的第一带电粒子束波穿过。在第二模式下，可移动孔板位于第二位置并且被配置为允许第一带电粒子束波和第二带电粒子束波穿过。

公开(公告)号：CN108885187B

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201780019776.X

申请日：2017-01-27

Applicant: ASML 荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: G01N23/2251

Abstract: 提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地，作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。

公开(公告)号：CN112567493A

公开(公告)日：2021-03-26

申请号：CN201980053848.1

申请日：2019-07-31

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/153 ,  H01J37/05

Abstract: 公开了用于在多束装置中观察样品的系统和方法。一种带电粒子光学系统可以包括：偏转器，其被配置为形成带电粒子源的虚像；和转印透镜，其被配置为在图像平面上形成带电粒子源的实像。图像平面可以至少形成在光束分离器附近，该光束分离器被配置为分离由源生成的初级带电粒子和由初级带电粒子与样品的交互而生成的次级带电粒子。图像平面可以形成在光束分离器的偏转平面处。多束装置可以包括带电粒子色散补偿器以补偿光束分离器的色散。在转印透镜与带电粒子色散补偿器之间，图像平面可以被形成为与光束分离器相比更靠近转印透镜。

公开(公告)号：CN108738363B

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201680051694.9

申请日：2016-07-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/06 ,  H01J37/10 ,  H01J37/28

Abstract: 提出了一种用于以高分辨率和高生产能力观察样本的多束装置。在该装置中，源转换单元通过使来自一个单电子源的平行初级电子束的多个小束偏转来形成该单电子源的多个且平行的图像，并且一个物镜将多个偏转的小束聚焦到样本表面上，并在样本表面上形成多个探测点。可移动聚光透镜用于使初级电子束准直，并改变多个探测点的电流，预小束形成部件弱化初级电子束的库仑效应，并且源转换单元通过最小化并补偿物镜和聚光透镜的离轴像差来最小化多个探测点的尺寸。

公开(公告)号：CN110945621A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201880048462.7

申请日：2018-07-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  罗希楠 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/244

Abstract: 提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。

公开(公告)号：CN113632196B

公开(公告)日：2025-05-23

申请号：CN202080024585.4

申请日：2020-03-06

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 席庆坡 ,  胡学让 ,  刘学东 ,  任伟明 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 公开了一种包括可调射束分离器的多射束检查装置。可调射束分离器被配置为改变次级粒子射束的路径。可调射束分离器包括第一维恩过滤器和第二维恩过滤器。两个维恩过滤器都与初级光学轴线对准。第一维恩过滤器和第二维恩过滤器是分别经由第一激励输入和第二激励输入而独立可控的。可调射束分离器被配置为基于第一激励输入和第二激励输入，沿着初级光学轴线来移动可调射束分离器的有效弯曲点。

公开(公告)号：CN114420523B

公开(公告)日：2025-04-15

申请号：CN202210041735.3

申请日：2016-11-30

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任伟明 ,  刘学东 ,  胡学让 ,  陈仲玮

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  G01N23/2251

Abstract: 披露了多个带电粒子束的设备。提出了一种多束设备中的二次投影成像系统，该二次投影成像系统使二次电子检测具有高收集效率和低串扰。该系统采用一个变焦透镜，一个投影透镜和一个防扫描偏转单元。变焦透镜和投影透镜分别执行变焦功能和防旋转功能，以相对于多个一次细束的着陆能量和/或电流保持总成像放大倍率和总图像旋转。防扫描偏转单元执行防扫描功能以消除由于多个一次细束的偏转扫描而导致的动态图像移位。