公开(公告)号：CN117813669A

公开(公告)日：2024-04-02

申请号：CN202280056336.2

申请日：2022-06-17

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·斯洛特 ,  M·J·B·奥斯特伯格

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317

Abstract: 一种带电粒子装置，被配置为将带电粒子多射束朝向样品投射，包括：带电粒子源，其被配置为发射带电粒子射束；光源，被配置为发射光；以及带电粒子光学设备，其被配置为向样品投射从带电粒子射束导出的带电粒子多射束的子射束；其中，光源被布置为使得光沿着子射束的路径投射穿过带电粒子光学设备，以便照射样品的至少一部分。

公开(公告)号：CN118476003A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202280078644.5

申请日：2022-09-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·J·B·奥斯特伯格 ,  K·舒尔比尔斯

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/02 ,  H01J37/15 ,  H01J37/28

Abstract: 一种带电粒子装置，被配置为沿多射束路径向样品投射多射束带电粒子，带电粒子装置包括：带电粒子源，被配置为向样品发射带电粒子束；带电粒子光学设备，被配置为沿多射束路径向样品投射多射束带电粒子的子射束，该多射束带电粒子的子射束源自带电粒子束；围绕多射束路径的管，被配置为以与地电位的第一电位差操作；以及支撑件，被配置为以与地电位的第二电位差支撑样品，第一电位差和第二电位差具有差值，以便加速朝向样品的多射束带电粒子；其中第一电位差大于第二电位差。

公开(公告)号：CN116745880A

公开(公告)日：2023-09-12

申请号：CN202180086813.5

申请日：2021-11-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·J·B·奥斯特伯格 ,  金井建一

IPC: H01J37/147

Abstract: 公开了用于将初级电子射束沿着初级射束路径引导到样品上的装置和方法。在一种布置中，射束分离器使从样品沿着初级射束路径发射的次级电子射束远离初级射束路径转向。色散设备位于射束分离器的射束上游。色散设备补偿由射束分离器在初级射束中引起的色散。一个或多个公共电源驱动射束分离器和色散设备两者。