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公开(公告)号：CN111095114B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201880059407.8
申请日：2018-08-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·盖佩恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种对准互补衍射图案对的方法，该互补衍射图案对包括第一互补衍射图案和第二互补衍射图案，该互补衍射图案对通过对由光刻过程形成的结构执行量测过程而获得。该方法包括：至少执行精细对准阶段，以对准互补衍射图案对。对准阶段包括：对检测器区域的至少一部分上的第一互补衍射图案的测量值进行内插；以及通过第二互补衍射图案的平移和旋转中的一者或两者，使第二互补衍射图案中的测量值与来自第一互补衍射图案的内插的对应内插值之间的残差最小化。还公开了一种使用对准方法来测量结构的感兴趣参数的方法及相关联的量测装置。
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公开(公告)号：CN111095114A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880059407.8
申请日：2018-08-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： N·盖佩恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种对准互补衍射图案对的方法，该互补衍射图案对包括第一互补衍射图案和第二互补衍射图案，该互补衍射图案对通过对由光刻过程形成的结构执行量测过程而获得。该方法包括：至少执行精细对准阶段，以对准互补衍射图案对。对准阶段包括：对检测器区域的至少一部分上的第一互补衍射图案的测量值进行内插；以及通过第二互补衍射图案的平移和旋转中的一者或两者，使第二互补衍射图案中的测量值与来自第一互补衍射图案的内插的对应内插值之间的残差最小化。还公开了一种使用对准方法来测量结构的感兴趣参数的方法及相关联的量测装置。
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公开(公告)号：CN109313390B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201780026267.X
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 林楠 , A·J·登博夫 , S·B·鲁博尔 , S·G·J·马斯杰森 , N·盖佩恩
摘要： 公开了一种在检查设备中执行测量的方法、以及相关联的检查设备和HHG源。该方法包括配置高次谐波发生辐射源的至少一个驱动激光脉冲的一个或多个可控特性，以控制由高次谐波发生辐射源提供的照射辐射的输出发射光谱；以及利用所述照射辐射来照射目标结构。该方法可以包括配置驱动激光脉冲，使得输出发射光谱包括多个离散谐波峰值。可替代地，该方法可以包括使用不同波长的多个驱动激光脉冲，使得输出发射光谱基本上是单色的。
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公开(公告)号：CN109313390A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780026267.X
申请日：2017-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 林楠 , A·J·登博夫 , S·B·鲁博尔 , S·G·J·马斯杰森 , N·盖佩恩
摘要： 公开了一种在检查设备中执行测量的方法、以及相关联的检查设备和HHG源。该方法包括配置高次谐波发生辐射源的至少一个驱动激光脉冲的一个或多个可控特性，以控制由高次谐波发生辐射源提供的照射辐射的输出发射光谱；以及利用所述照射辐射来照射目标结构。该方法可以包括配置驱动激光脉冲，使得输出发射光谱包括多个离散谐波峰值。可替代地，该方法可以包括使用不同波长的多个驱动激光脉冲，使得输出发射光谱基本上是单色的。
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公开(公告)号：CN117255972A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202280033121.9
申请日：2022-04-12
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： C·巴蒂斯塔基斯 , M·皮萨伦科 , M·G·M·M·范克莱杰 , V·D·鲁蒂格利安尼 , S·A·米德尔布鲁克 , C·A·弗舒伦 , N·盖佩恩
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种确定随机度量的方法，该方法包括：获得经训练的模型，该模型已经被训练为使训练光学量测数据与训练随机度量数据相关，其中训练光学量测数据包括多个测量信号，该多个测量信号与跨从多个训练结构散射的辐射的零阶或更高阶衍射的强度相关参数的分布有关，并且训练随机度量数据包括与所述多个训练结构有关的随机度量值，其中多个训练结构已经被形成为具有所述随机度量所依赖的一个或多个维度的变化；获得光学量测数据，该光学量测数据包括跨越从结构散射的辐射的零阶或较高阶衍射的强度相关参数的分布；以及使用经训练的模型从光学量测数据推断随机度量的值。
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