公开(公告)号：CN101952780B

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN200980105437.9

申请日：2009-02-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·J·莫尔斯 ,  N·B·考斯特 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  M·F·P·斯密特思 ,  A·T·W·凯姆彭

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70916

摘要： 一种光刻设备(1)，所述光刻设备(1)包括磁体(100)，所述磁体(100)被包含在保护性外罩(110)内，所述保护性外罩(110)被布置以保护磁体(100)不与包含H2或包含H原子的气体接触。外罩(110)还可以包含氢气吸气剂(120)、磁体表面修饰气体(130)或非包含氢的气体(130)。非包含氢的气体流可以被提供或磁体表面修饰气体流可以被提供通过保护性外罩(110)的至少一部分。

公开(公告)号：CN101952780A

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200980105437.9

申请日：2009-02-19

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·H·J·莫尔斯 ,  N·B·考斯特 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  M·F·P·斯密特思 ,  A·T·W·凯姆彭

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70916

摘要： 一种光刻设备(1)，所述光刻设备(1)包括磁体(100)，所述磁体(100)被包含在保护性外罩(110)内，所述保护性外罩(110)被布置以保护磁体(100)不与包含H2或包含H原子的气体接触。外罩(110)还可以包含氢气吸气剂(120)、磁体表面修饰气体(130)或非包含氢的气体(130)。非包含氢的气体流可以被提供或磁体表面修饰气体流可以被提供通过保护性外罩(110)的至少一部分。