公开(公告)号：CN106575085B

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201580038295.4

申请日：2015-07-06

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  S·比林 ,  M·恩德林斯 ,  M·M·埃斯卡兰特 ,  T·格鲁纳 ,  L·维施迈尔

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 使用EUV辐射的光刻设备具有被配置用于提供科勒照射的照射器。照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424)，其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50)，光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。可独立导向的反射器被控制在非激活状态和至少一个激活状态之间，以便控制传送至衬底的剂量。

公开(公告)号：CN106575085A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：CN201580038295.4

申请日：2015-07-06

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  卡尔蔡司SMT有限责任公司

发明人： 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 ,  S·比林 ,  M·恩德林斯 ,  M·M·埃斯卡兰特 ,  T·格鲁纳 ,  L·维施迈尔

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70083 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70558

摘要： 使用EUV辐射的光刻设备具有被配置用于提供科勒照射的照射器。照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424)，其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50)，光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。可独立导向的反射器被控制在非激活状态和至少一个激活状态之间，以便控制传送至衬底的剂量。