公开(公告)号：CN101206688B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200710300969.0

申请日：2007-12-14

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： 卡斯·塞格·鲁斯特 ,  詹森·道格拉斯·赫因特斯汀尔 ,  帕特克尔思·阿洛伊修斯·杰克布斯·提纳曼斯 ,  温塞斯劳·A·塞布哈 ,  罗纳德·P·奥尔布赖特 ,  伯纳多·卡斯卓普 ,  马丁内斯·亨卓克斯·亨卓克斯·胡克斯

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开了一种光刻系统、一种器件制造方法、一种定点数据优化方法和一种生产设备。所述定点数据优化方法包括产生用于控制无掩模系统中的独立可控元件阵列的元件动作的优化的定点数据。所述优化基于器件结构和/或剂量图案的估计，所述估计可以利用一种或多种下列因素：投影系统的低通特性、照射系统的构造以及工艺窗口属性。

公开(公告)号：CN101206688A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710300969.0

申请日：2007-12-14

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： 卡斯·塞格·鲁斯特 ,  詹森·道格拉斯·赫因特斯汀尔 ,  帕特克尔思·阿洛伊修斯·杰克布斯·提纳曼斯 ,  温塞斯劳·A·塞布哈 ,  罗纳德·P·奥尔布赖特 ,  伯纳多·卡斯卓普 ,  马丁内斯·亨卓克斯·亨卓克斯·胡克斯

IPC: G06F17/50 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70791 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70441 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70558

Abstract: 本发明公开了一种光刻系统、一种器件制造方法、一种定点数据优化方法和一种生产设备。所述定点数据优化方法包括产生用于控制无掩模系统中的独立可控元件阵列的元件动作的优化的定点数据。所述优化基于器件结构和/或剂量图案的估计，所述估计可以利用一种或多种下列因素：投影系统的低通特性、照射系统的构造以及工艺窗口属性。