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公开(公告)号：CN115840333A
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202211280390.3
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN107172884B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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公开(公告)号：CN107172884A
公开(公告)日：2017-09-15
申请号：CN201580062446.X
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： M·克鲁兹恩卡 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 埃里克·W·博加特 , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , 理查德·J·布鲁尔斯 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , 穆罕默德·R·卡迈利 , R·H·G·克莱默 , R·G·M·兰斯博根 , M·H·A·里恩德尔斯 , 马太·利普森 , E·R·鲁普斯特拉 , 约瑟夫·H·莱昂斯 , S·鲁 , G·范德博世 , S·范德黑坎特 , S·范德格拉夫 , F·范德穆伦 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根
CPC classification number: G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825 , G03F1/62
Abstract: 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111458973B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN201911079900.9
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
Abstract: 本发明提供了一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分。(56)对比文件US 2014255827 A1,2014.09.11US 5976307 A,1999.11.02US 2014307237 A1,2014.10.16CA 2752247 A1,2004.10.14CN 1591193 A,2005.03.09CN 1249235 A,2000.04.05US 2009239158 A1,2009.09.24CN 102681334 A,2012.09.19US 2002155359 A1,2002.10.24
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公开(公告)号：CN111458973A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN201911079900.9
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
Abstract: 本发明提供了一种表膜框架附接设备，被配置成容纳图案形成装置和包括表膜框架和表膜的表膜组件，所述表膜附接设备包括被配置用以对设置于表膜框架上的子安装台的接合机构进行操作的操纵器，其中所述操纵器突出穿过设置于分隔区中的开口或从所述开口突出，所述分隔区使容纳表膜组件的受控环境与所述表膜框架附接设备的其他部分分。
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公开(公告)号：CN107111224A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580062459.7
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
CPC classification number: G03F7/70983 , G03F1/64 , G03F7/70825 , G03F1/62
Abstract: 用于适合于光刻过程中使用的掩模组件的加工，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装于所述图案形成装置上；其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式的可接合附接。
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公开(公告)号：CN117826520A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202410147508.8
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
Abstract: 本申请公开了一种螺柱附接设备、一种螺柱移除设备、一种将表膜组件附接至图案形成装置的方法以及一种从图案形成装置移除螺柱的方法。所述螺柱附接设备包括被配置成保持图案形成装置的支撑结构和被配置成使螺柱接触所述图案形成装置的螺柱操纵器，其中所述螺柱操纵器由分隔区而与容纳图案形成装置的受控环境分离，所述分隔区包括所述螺柱可突出穿过以便与所述图案形成装置接触的孔。
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公开(公告)号：CN107111224B
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：CN201580062459.7
申请日：2015-11-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德穆伦 , 马尔滕·M·M·詹森 , 约根·M·阿泽雷L , 德克·S·G·布龙 , 马克·布鲁因 , J·德克尔斯 , 保罗·詹森 , R·H·G·克莱默 , M·克鲁兹恩卡 , R·G·M·兰斯勃根 , M·H·A·李德斯 , 埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓 , G·范德博世 , J·F·S·V·范罗 , B·L·M-J·K·韦伯罗根 , 安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克 , J·M·丁斯 , M·L·J·杨森 , R·J·J·克尔斯滕斯 , M·J·M·克斯特斯 , M·卢斯 , G·米德尔 , S·M·赖纳德斯 , F·J·C·托伊尔蔡特 , A·J·W·范利芬根
Abstract: 用于适合于光刻过程中使用的掩模组件的加工，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装于所述图案形成装置上；其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式的可接合附接。
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