公开(公告)号：CN115840333A

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN202211280390.3

申请日：2015-11-16

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： M·克鲁兹恩卡 ,  马尔滕·M·M·詹森 ,  约根·M·阿泽雷L ,  埃里克·W·博加特 ,  德克·S·G·布龙 ,  马克·布鲁因 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  J·德克尔斯 ,  保罗·詹森 ,  穆罕默德·R·卡迈利 ,  R·H·G·克莱默 ,  R·G·M·兰斯博根 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  马太·利普森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约瑟夫·H·莱昂斯 ,  S·鲁 ,  G·范德博世 ,  S·范德黑坎特 ,  S·范德格拉夫 ,  F·范德穆伦 ,  J·F·S·V·范罗 ,  B·L·M-J·K·韦伯罗根

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。

公开(公告)号：CN107172884B

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN201580062446.X

申请日：2015-11-16

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： M·克鲁兹恩卡 ,  马尔滕·M·M·詹森 ,  约根·M·阿泽雷L ,  埃里克·W·博加特 ,  德克·S·G·布龙 ,  马克·布鲁因 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  J·德克尔斯 ,  保罗·詹森 ,  穆罕默德·R·卡迈利 ,  R·H·G·克莱默 ,  R·G·M·兰斯博根 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  马太·利普森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约瑟夫·H·莱昂斯 ,  S·鲁 ,  G·范德博世 ,  S·范德黑坎特 ,  S·范德格拉夫 ,  F·范德穆伦 ,  J·F·S·V·范罗 ,  B·L·M-J·K·韦伯罗根

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。

公开(公告)号：CN107172884A

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：CN201580062446.X

申请日：2015-11-16

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： M·克鲁兹恩卡 ,  马尔滕·M·M·詹森 ,  约根·M·阿泽雷L ,  埃里克·W·博加特 ,  德克·S·G·布龙 ,  马克·布鲁因 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  J·德克尔斯 ,  保罗·詹森 ,  穆罕默德·R·卡迈利 ,  R·H·G·克莱默 ,  R·G·M·兰斯博根 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  马太·利普森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  约瑟夫·H·莱昂斯 ,  S·鲁 ,  G·范德博世 ,  S·范德黑坎特 ,  S·范德格拉夫 ,  F·范德穆伦 ,  J·F·S·V·范罗 ,  B·L·M-J·K·韦伯罗根

IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70983 ,  G03F1/64 ,  G03F7/70825 ,  G03F1/62

摘要： 一种适合用于光刻工艺中的掩模组件，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，所述表膜框架被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装在所述图案形成装置上；其中所述安装件被配置成用以相对于所述图案形成装置悬置所述表膜框架，使得所述膜框架与所述图案形成装置之间有间隙；且其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供以可释放的方式可接合的附接。

公开(公告)号：CN107430348A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680013084.X

申请日：2016-02-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H-K·尼恩惠斯 ,  埃里克·W·博加特 ,  R·L·唐克 ,  B·克鲁兹卡 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·博特马 ,  G·C·德弗里斯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  J·J·M·巴塞曼斯

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/0268 ,  G02B5/0284 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70991 ,  H01S3/2308 ,  H05G2/008

摘要： 一种辐射系统包括：分束设备，配置成接收主辐射束且将所述主辐射束分成多个分支辐射束；和辐射更改装置，布置成接收输入辐射束且输出修改后的辐射束，其中所述辐射更改装置配置成提供输出的修改后的辐射束，所述输出的修改后的辐射束在与所述所接收的输入辐射束相比较时具有增加的集光率，其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束为主辐射束，且所述辐射更改装置配置成将修改后的主辐射束提供至所述分束设备，或其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束是从所述分束设备输出的分支辐射束。

公开(公告)号：CN118633060A

公开(公告)日：2024-09-10

申请号：CN202380019450.2

申请日：2023-01-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： G·克拉默 ,  C·W·J·贝伦德森 ,  S·万佩尔特 ,  M·M·P·A·沃姆伦 ,  S·K·拉文斯伯格 ,  埃里克·W·博加特

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便改善所述外部区与非标准衬底之间的水平过渡，所述非标准衬底具有不同于所述支撑平面与由所述外部区限定的名义平面之间的距离的厚度。

公开(公告)号：CN107430348B

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN201680013084.X

申请日：2016-02-16

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H-K·尼恩惠斯 ,  埃里克·W·博加特 ,  R·L·唐克 ,  B·克鲁兹卡 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·博特马 ,  G·C·德弗里斯 ,  O·W·V·弗吉恩斯 ,  J·J·M·巴塞曼斯

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 一种辐射系统包括：分束设备，配置成接收主辐射束且将所述主辐射束分成多个分支辐射束；和辐射更改装置，布置成接收输入辐射束且输出修改后的辐射束，其中所述辐射更改装置配置成提供输出的修改后的辐射束，所述输出的修改后的辐射束在与所述所接收的输入辐射束相比较时具有增加的集光率，其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束为主辐射束，且所述辐射更改装置配置成将修改后的主辐射束提供至所述分束设备，或其中所述辐射更改装置被布置成使得由所述辐射更改装置所接收的所述输入辐射束是从所述分束设备输出的分支辐射束。