公开(公告)号：CN114207530B

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202080055723.5

申请日：2020-08-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： F·G·C·比基恩 ,  M·艾莱伊普 ,  S·R·胡伊斯曼 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC: G03F9/00 ,  G01B9/02015

Abstract: 一种对准设备，包括照射系统，所述照射系统被配置成朝向对准目标引导一个或更多个照射束且从所述对准目标接收衍射束。所述对准设备也包括自参考干涉仪，所述自参考干涉仪被配置成产生两个衍射子束，其中所述两个衍射子束被正交地偏振、相对于彼此围绕对准轴线旋转180度且在空间上叠置。所述对准设备还包括：束分析器，所述束分析器被配置成产生所述衍射子束的叠置分量之间的干涉且产生两个正交偏振的光学支路；以及检测系统，所述检测系统被配置成基于所述光学支路的光强度测量确定所述对准目标的位置，其中所测量的光强度通过相位调制器在时间上调制。

公开(公告)号：CN114207530A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080055723.5

申请日：2020-08-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： F·G·C·比基恩 ,  M·艾莱伊普 ,  S·R·胡伊斯曼 ,  A·J·登鲍埃夫

IPC: G03F9/00

Abstract: 一种对准设备，包括照射系统，所述照射系统被配置成朝向对准目标引导一个或更多个照射束且从所述对准目标接收衍射束。所述对准设备也包括自参考干涉仪，所述自参考干涉仪被配置成产生两个衍射子束，其中所述两个衍射子束被正交地偏振、相对于彼此围绕对准轴线旋转180度且在空间上叠置。所述对准设备还包括：束分析器，所述束分析器被配置成产生所述衍射子束的叠置分量之间的干涉且产生两个正交偏振的光学支路；以及检测系统，所述检测系统被配置成基于所述光学支路的光强度测量确定所述对准目标的位置，其中所测量的光强度通过相位调制器在时间上调制。

公开(公告)号：CN116783556A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202280010440.8

申请日：2022-01-04

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： M·斯威拉姆 ,  J·L·克勒泽 ,  S·鲁 ,  M·L·纳尔逊 ,  M·艾莱伊普

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种量测系统，包括辐射源、可调整的衍射元件、光学系统、光学元件、和处理器。辐射源产生辐射。可调整的衍射元件使辐射衍射以产生第一辐射束和第二辐射束。第一束和第二束分别具有不同的第一非零衍射阶和第二非零衍射阶。光学系统将第一束和第二束朝向目标结构引导，使得分别基于第一束和第二束产生辐射的第一散射束和第二散射束。量测系统调整第一散射束与第二散射束的相位差。光学元件使第一散射束和第二散射束在产生检测信号的成像检测器处干涉。处理器接收并分析检测信号以基于经调整的相位差确定目标结构的性质。