公开(公告)号：CN115873214A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202210930041.5

申请日：2022-08-03

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 今田知之 ,  今井裕佳理 ,  长田裕仁 ,  伊部武史

IPC: C08G59/08 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。提供能够抑制热处理时的低分子量成分的挥发及升华、能够制造可以表现高折射率、低消光系数及高耐蚀刻性的膜的环氧树脂。环氧树脂具有下述通式(1‑1)所示的重复单元，且两末端为下述通式(1‑2)所示的结构。

公开(公告)号：CN118994582A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410284587.7

申请日：2024-03-13

Applicant: DIC株式会社

Inventor： 今井裕佳理 ,  伊部武史

IPC: C08G77/20 ,  C09D183/07

Abstract: 本发明提供一种涂布性、获得的硬化物的耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷、光硬化性有机聚硅氧烷组合物及硬化物。一种光硬化性有机聚硅氧烷具有*‑O‑R11‑Y所表示的聚合性官能基(Y为包含碳‑碳不饱和键的基，*表示与所述有机聚硅氧烷的硅原子的键结位置)及烷氧基硅烷基，所述光硬化性有机聚硅氧烷中，T单元在总硅烷氧基单元中所占的比例为70摩尔％以上，所述光硬化性有机聚硅氧烷含有40质量％以上的所述聚合性官能基，且以0.1质量％～10质量％的范围含有所述烷氧基硅烷基。