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公开(公告)号：CN118011733A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311483172.4
申请日：2023-11-09
Applicant: DIC株式会社
Abstract: 提供能够得到i射线透射性高、显影性和耐热性优异的抗蚀膜的正型感光性树脂组合物、抗蚀膜、抗蚀下层膜和抗蚀永久膜。一种正型感光性树脂组合物，其含有下述成分(A)～(C)。(A)酚醛清漆型酚醛树脂/(B)光产酸剂/(C)溶剂，所述酚醛清漆型酚醛树脂中的由间甲酚衍生的结构单元(a1)、由苯甲醛衍生的结构单元(a2)和由水杨醛衍生的结构单元(a3)的摩尔比[(a1):(a2):(a3)]为1.0:0.3～0.8:0.3～0.8，所述酚醛清漆型酚醛树脂具有缩醛基系保护基。
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公开(公告)号：CN105408376B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201480042290.4
申请日：2014-06-17
Applicant: DIC株式会社
IPC: C08F290/06 , G02B1/04
CPC classification number: C08F290/067 , C08F290/06 , G02B1/041 , C08L75/14
Abstract: 本发明提供一种粘度低、且可表现出高折射率的光固化性树脂组合物。具体而言，使用氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯树脂(A)，其是以芳香族二异氰酸酯化合物(a)、多元醇化合物(b)、含羟基(甲基)丙烯酸酯化合物(c)作为必须原料成分并使其反应而得到的，具有下述结构式(1)(式中，R1为氢原子或甲基。)所示的结构部位(a‑1)和下述结构式(2)(式中，R1、R2和R3为氢原子或甲基，X1、X2为氢原子或甲基。)所示的结构部位(a‑2)，所述结构部位(a‑1)与(a‑2)的比例以摩尔比[(a‑1)/(a‑2)]计为45/55～60/40，且前述多元醇化合物(b)具有芳香族烃骨架。
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公开(公告)号：CN117687269A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311167780.4
申请日：2023-09-12
Applicant: DIC株式会社
Abstract: 一种负型感光性树脂组合物和干膜抗蚀剂。本发明的课题是提供一种负型感光性树脂组合物和曝光前的抗蚀层具有碱溶解性，制膜性和密合性优异，且曝光后的抗蚀剂固化物的耐化学药品性优异的干膜抗蚀剂。本发明的解决手段在于提供一种负型感光性树脂组合物，其含有下述成分(A)～(C)。(A)由间甲酚衍生的结构单元(a1)、由苯甲醛衍生的结构单元(a2)和由水杨醛衍生的结构单元(a3)的摩尔比[(a1)：(a2)：(a3)]为1.0：0.3～0.8：0.3～0.8的酚醛清漆型酚醛树脂/(B)自由基聚合性化合物/(C)光聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN116023607A
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202211323239.3
申请日：2022-10-27
Applicant: DIC株式会社
Abstract: 本发明提供含酚性羟基树脂。提供相对于弱碱显影液具有优异的溶解性、具有与光敏剂的高亲和性、不使用甲醛的感光性树脂组合物。一种含酚性羟基树脂，其包含：由酚化合物衍生的结构单元(a)、由具有羧基的芳香族醛化合物衍生的结构单元(b)、和由芳香族醛化合物衍生的结构单元(c)。
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公开(公告)号：CN115873214A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202210930041.5
申请日：2022-08-03
Applicant: DIC株式会社
Abstract: 本发明涉及环氧树脂、感光性树脂组合物、抗蚀膜、固化性组合物及固化膜。提供能够抑制热处理时的低分子量成分的挥发及升华、能够制造可以表现高折射率、低消光系数及高耐蚀刻性的膜的环氧树脂。环氧树脂具有下述通式(1‑1)所示的重复单元，且两末端为下述通式(1‑2)所示的结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105378893B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：CN201480032326.0
申请日：2014-05-23
Applicant: DIC株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08F220/20
CPC classification number: C09D141/00 , C08F222/1006 , C08L2312/00 , C09D4/00 , C09D133/08 , C09D133/14 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/033 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种固化性组合物，其特征在于，其为含有聚合性化合物的压印用固化性组合物，(a)上述聚合性化合物的聚合性基团浓度为4.3～7.5mmol/g，(b)相对于全部聚合性化合物以40～95质量％的范围含有大西参数为3.5以下、环参数为0.35以上的聚合性化合物X，(c)进而，相对于全部聚合性化合物以5～20质量％的范围含有具有3个以上聚合性基团的聚合性化合物C，(d)组合物的25℃下的粘度在不含溶剂的状态下为3～8000mPa·s的范围。
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公开(公告)号：CN105849862A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201480071050.7
申请日：2014-12-17
Applicant: DIC株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F12/34 , C08F257/00 , C08K5/00 , C08L25/02 , C08L101/02 , H01L21/3065
CPC classification number: C08F12/36 , B29C59/026 , B81C2201/0153 , C08F12/32 , C08F12/34 , C08F257/00 , C08K5/00 , C08L101/02 , C09D125/16 , G03F7/0002 , H01L21/31144
Abstract: 本发明提供一种干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物，其特征在于，所述干式蚀刻抗蚀剂用固化性树脂组合物含有聚合物(A)，所述聚合物(A)在侧链具有包含连接有乙烯基的芳香族基团的特定结构，该聚合物(A)中的特定结构在聚合物(A)中占80～100重量％。还提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其特征在于，其是使该干式蚀刻抗蚀剂用固化性组合物固化而成的，以及提供一种干式蚀刻用抗蚀掩模，其具有由纳米压印法得到的图案。
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公开(公告)号：CN118994582A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410284587.7
申请日：2024-03-13
Applicant: DIC株式会社
IPC: C08G77/20 , C09D183/07
Abstract: 本发明提供一种涂布性、获得的硬化物的耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷、光硬化性有机聚硅氧烷组合物及硬化物。一种光硬化性有机聚硅氧烷具有*‑O‑R11‑Y所表示的聚合性官能基(Y为包含碳‑碳不饱和键的基，*表示与所述有机聚硅氧烷的硅原子的键结位置)及烷氧基硅烷基，所述光硬化性有机聚硅氧烷中，T单元在总硅烷氧基单元中所占的比例为70摩尔％以上，所述光硬化性有机聚硅氧烷含有40质量％以上的所述聚合性官能基，且以0.1质量％～10质量％的范围含有所述烷氧基硅烷基。
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公开(公告)号：CN118672058A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410022512.1
申请日：2024-01-08
Applicant: DIC株式会社
Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物、抗蚀剂膜、抗蚀剂下层膜及抗蚀剂永久膜。本发明提供一种正型感光性树脂组合物，其具有以往的正型感光性树脂组合物所没有的碱溶解性、感光剂亲和性、以及在制成抗蚀剂膜时的低温固化性及低体积收缩性。一种正型感光性树脂组合物，其含有下述成分(A)～(D)，(A)由间甲酚衍生的结构单元(a1)、由苯甲醛衍生的结构单元(a2)及由水杨醛衍生的结构单元(a3)的摩尔比((a1)：(a2)：(a3))为1.0：0.3～0.8：0.3～0.8的酚醛清漆型酚醛树脂/(B)感光剂/(C)热交联剂/(D)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN117075428A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310547262.9
申请日：2023-05-16
Applicant: DIC株式会社
IPC: G03F7/038
Abstract: 本发明提供一种负型感光性树脂组合物。提供具有碱溶解性、能够抑制制膜不良的发生、能够低温固化且能够得到耐化学药品性优异的固化膜的固化性组合物。一种负型感光性树脂组合物，其含有下述成分(A)～(D)。(A)由间甲酚衍生的结构单元(a1)、由苯甲醛衍生的结构单元(a2)和由水杨醛衍生的结构单元(a3)的摩尔比[(a1):(a2):(a3)]为1.0:0.4～0.8:0.3～0.6的酚醛清漆型酚醛树脂/(B)选自含有烯属不饱和基团的聚酰亚胺、含有烯属不饱和基团的聚酰亚胺前体、含有烯属不饱和基团的聚苯并噁唑和含有烯属不饱和基团的聚苯并噁唑前体中的1种以上树脂/(C)感光剂/(D)溶剂。
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