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公开(公告)号：CN101315518A
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200810099966.X
申请日：2008-05-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模的检查方法、光掩模的制造方法、电子部件的制造方法、测试掩模及测试掩模组。其中，使用测试掩模进行曝光、显影而得到测试用抗蚀图形，对其进行测量得到实际曝光测试图形数据。另外，在规定的光学条件下对测试掩模进行光照射通过摄像装置取得光透射图形，再基于得到的光透射图形得到光透射测试图形数据。对实际曝光测试图形数据和光透射测试图形数据进行比较，基于这一比较结果设定光学条件，再基于对作为检查对象的光掩模进行光照射而得到的光透射图形进行光掩模的检查。
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公开(公告)号：CN101256350A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200810081531.2
申请日：2008-02-28
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 中西胜彦
Abstract: 提供一种灰阶掩模的缺陷检查方法，能够正确判定具有形成了在掩模使用时的曝光条件下的析像限度以下的细微图案的区域的灰阶掩模的半透光部有无缺陷，能够提高缺陷检查的可靠性。灰阶掩模具有遮光部、透光部和半透光部，灰阶掩模的半透光部具有形成了在灰阶掩模使用时曝光的曝光条件下的析像限度以下的细微遮光图案的区域，其中具有：扫描半透光部得到透过率信号的工序；及将透过率信号与预先设定的半透光部的透过率许可值进行比较，判定半透光部有无缺陷的判定工序。在得到透过率信号的工序中，利用规定的光源照射半透光部，利用拍摄装置拍摄在透过半透光部的透过光束的作用下从正聚焦位置以规定量散焦后的图像，从该拍摄图像得到透过率信号。
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公开(公告)号：CN102109758B
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201110057102.3
申请日：2008-05-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，该测试掩模形成有测试图形，测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，所述各单位图形的所述灰色调部的面积，根据所述一定的规律而互不相同。从而在光学检查中可很好地进行光学条件的设定。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101315518B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200810099966.X
申请日：2008-05-29
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明涉及光掩模的检查方法、光掩模的制造方法、电子部件的制造方法、测试掩模及测试掩模组。其中，使用测试掩模进行曝光、显影而得到测试用抗蚀图形，对其进行测量得到实际曝光测试图形数据。另外，在规定的光学条件下对测试掩模进行光照射通过摄像装置取得光透射图形，再基于得到的光透射图形得到光透射测试图形数据。对实际曝光测试图形数据和光透射测试图形数据进行比较，基于这一比较结果设定光学条件，再基于对作为检查对象的光掩模进行光照射而得到的光透射图形进行光掩模的检查。
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公开(公告)号：CN1216285C
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN02108247.2
申请日：2002-03-28
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 中西胜彦
CPC classification number: G03F1/84 , G01N21/956 , G03F1/50
Abstract: 本发明提供一种保证灰调掩模中灰调部的透射率的缺陷检查方法及缺陷检查装置。该缺陷检查方法，用来检查具有遮光部、透射部和灰调部的灰调掩模的缺陷，其中灰调部是调整透射量的区域，目的是减少透射过该区域的光的透射量而可选地改变光敏抗蚀剂的膜厚。使用扫描掩模内的图形所得到的透射率信号，针对该透射率信号7，设定灰调部中透射率缺陷的阈值为8a、8b，在超过该阈值8a、8b时，判断为灰调部中发生透射率缺陷。
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公开(公告)号：CN101154032B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200710154387.6
申请日：2007-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题，在于提供能够在搬运及往光刻机上安装等的处理中，防止遮光膜周边部分的剥离、抑制起因于遮光膜的剥离而产生的微粒的光掩模坯料。在本发明中，通过下列工序制造光掩模坯料：成膜工序，该成膜工序将沿着透光性基板(1)的主表面(1a)的周边的外周部分，作为非形成区域(2a)，在该主表面(1a)上，形成遮光膜(2)；涂敷工序，该涂敷工序向包含形成遮光膜(2)的区域的涂敷抗蚀剂膜(3)，利用抗蚀剂膜(3)覆盖所述遮光膜(2)的周边；抗蚀剂膜周边除去工序，该抗蚀剂膜周边除去工序除去涂敷的抗蚀剂膜(3)的周边部分(3a)，从而使所述遮光膜(2)的周边部分(2b)露出。
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公开(公告)号：CN102109758A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：CN201110057102.3
申请日：2008-05-29
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/14
Abstract: 测试掩模，其用于光掩模的检查，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加工层上的抗蚀膜成为作为所述蚀刻加工的掩模的抗蚀图形，被用来对所述抗蚀膜进行规定图形的曝光，而且，该测试掩模形成有测试图形，测试图形具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部，其中，所述测试图形包含：排列有基于一定的规律其图形形状逐次变化的多个单位图形的部分，所述多个单位图形分别具有所述灰色调部，所述各单位图形的所述灰色调部的面积，根据所述一定的规律而互不相同。
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公开(公告)号：CN101154032A
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200710154387.6
申请日：2007-09-26
Applicant: HOYA株式会社
Abstract: 本发明的课题，在于提供能够在搬运及往光刻机上安装等的处理中，防止遮光膜周边部分的剥离、抑制起因于遮光膜的剥离而产生的微粒的光掩模坯料。在本发明中，通过下列工序制造光掩模坯料：成膜工序，该成膜工序将沿着透光性基板(1)的主表面(1a)的周边的外周部分，作为非形成区域(2a)，在该主表面(1a)上，形成遮光膜(2)；涂敷工序，该涂敷工序向包含形成遮光膜(2)的区域的涂敷抗蚀剂膜(3)，利用抗蚀剂膜(3)覆盖所述遮光膜(2)的周边；抗蚀剂膜周边除去工序，该抗蚀剂膜周边除去工序除去涂敷的抗蚀剂膜(3)的周边部分(3a)，从而使所述遮光膜(2)的周边部分(2b)露出。
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