公开(公告)号：CN102234247B

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201110101273.1

申请日：2011-04-20

申请人： JSR株式会社

发明人： 岩沢晴生 ,  一户大吾

IPC分类号： C07D209/86 ,  C08F2/48 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

摘要： 本发明涉及一种新化合物、放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的在于提供：一种化合物，其在作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线敏感度，且在放射线敏感性组合物中的溶解性和所得固化膜的透明性优异；以及一种放射线敏感性化合物，其能获得具有高透明性和表面硬度的固化膜。本发明为下式(1)表示的化合物。在下式(1)中，R4为脂环式烃基，其氢原子的一部分或全部被碳原子数为1～12的烷基取代。此外，本发明为含有作为[A]光聚合引发剂的上述化合物和[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物的放射线敏感性组合物。上述放射线敏感性组合物优选还含有[C]碱可溶性树脂。

公开(公告)号：CN101516970B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200780034461.9

申请日：2007-09-21

申请人： JSR株式会社

发明人： 岩沢晴生 ,  酒井达也 ,  松木安生 ,  玉木研太郎

IPC分类号： C08G77/12 ,  C04B41/81 ,  C09D183/05 ,  H01L21/316 ,  H01L21/76

CPC分类号： H01L21/3124 ,  C08G77/06 ,  C08G77/12 ,  C08G77/16 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/316 ,  H01L21/76224

摘要： 本发明涉及有机硅树脂，其特征在于：由下述示性式(1)表示：(H2SiO)n(Si1.5)m(SiO2)k(1)(式(1)中，n、m和k分别为数，n+m+k＝1时，n为0.05以上，m超过0但为0.95以下，k为0～0.2)，该树脂在120℃下为固态。本发明的有机硅树脂适合在用于形成长宽比较大的沟槽隔离的组合物中使用。

公开(公告)号：CN101516970A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200780034461.9

申请日：2007-09-21

申请人： JSR株式会社

发明人： 岩沢晴生 ,  酒井达也 ,  松木安生 ,  玉木研太郎

IPC分类号： C08G77/12 ,  C04B41/81 ,  C09D183/05 ,  H01L21/316 ,  H01L21/76

CPC分类号： H01L21/3124 ,  C08G77/06 ,  C08G77/12 ,  C08G77/16 ,  C09D183/04 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/316 ,  H01L21/76224

摘要： 本发明涉及有机硅树脂，其特征在于：由下述示性式(1)表示：(H2SiO)n(Si1.5)m(SiO2)k(1)；(式(1)中，n、m和k分别为数，n+m+k＝1时，n为0.05以上，m超过0但为0.95以下，k为0～0.2)，该树脂在120℃下为固态。本发明的有机硅树脂适合在用于形成长宽比较大的沟槽隔离的组合物中使用。

公开(公告)号：CN102234247A

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN201110101273.1

申请日：2011-04-20

申请人： JSR株式会社

发明人： 岩沢晴生 ,  一户大吾

IPC分类号： C07D209/86 ,  C08F2/48 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

摘要： 本发明涉及一种新化合物、放射线敏感性组合物、固化膜及其形成方法。本发明的目的在于提供：一种化合物，其在作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线敏感度，且在放射线敏感性组合物中的溶解性和所得固化膜的透明性优异；以及一种放射线敏感性化合物，其能获得具有高透明性和表面硬度的固化膜。本发明为下式(1)表示的化合物。在下式(1)中，R4为脂环式烃基，其氢原子的一部分或全部被碳原子数为1～12的烷基取代。此外，本发明为含有作为[A]光聚合引发剂的上述化合物和[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物的放射线敏感性组合物。上述放射线敏感性组合物优选还含有[C]碱可溶性树脂。