公开(公告)号：CN112135922A

公开(公告)日：2020-12-25

申请号：CN201980005486.9

申请日：2019-09-05

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 永津光太郎 ,  山田裕贵

IPC: C23C14/34 ,  B23K20/00 ,  H01L21/285

Abstract: 本发明涉及一种靶材与背板的接合体，其具有含有Ta的靶材和接合于所述靶材的背板，所述靶材与背板的拉伸强度为20kg/mm2以上，所述靶材的平均氢含量为7体积ppm以下。

公开(公告)号：CN113574203A

公开(公告)日：2021-10-29

申请号：CN202080021234.8

申请日：2020-01-28

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 山田裕贵 ,  永津光太郎

IPC: C23C14/34

Abstract: 提供一种在整个靶寿命中膜厚均匀性优良的铌溅射靶。一种铌溅射靶，在板状的靶的溅射面的中心与外周的中间的位置，将相对于所述溅射面垂直的所述靶的断面，沿所述溅射面的法线方向从所述溅射面侧开始三等分成上部、中央部以及下部，并且使用EBSD法测量该上部、中央部以及下部的晶体取向分布，并对所述上部、中央部以及下部的各个测量区域根据式(1)求出{111}面积率的情况下，所述上部、中央部以及下部的{111}面积率的如式(2)所示的变化率为2.5以下：{111}面积率＝测量区域中的{111}面沿所述法线方向取向的晶粒的面积的合计/测量区域整体的面积…式(1)；变化率＝[最大值－最小值]/最小值…式(2)。

公开(公告)号：CN113272468A

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN202080008598.2

申请日：2020-01-15

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 神永贤吾 ,  杉本圭次郎 ,  山田裕贵 ,  村田周平

IPC: C23C14/34 ,  B23K20/00

Abstract: 本发明提供一种可降低成本的溅射靶制品。所述溅射靶制品，包括：靶，背板或背管，嵌件材料的层，所述靶的非溅射面侧的至少一部分轮廓化为具有面对称状的凹凸部，所述嵌件材料的层形成为紧贴所述轮廓化的表面，所述嵌件材料，由比重至少比构成靶的金属更轻的金属形成。

公开(公告)号：CN113272468B

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202080008598.2

申请日：2020-01-15

Applicant: JX金属株式会社

Inventor： 神永贤吾 ,  杉本圭次郎 ,  山田裕贵 ,  村田周平

IPC: C23C14/34 ,  B23K20/00

Abstract: 本发明提供一种可降低成本的溅射靶制品。所述溅射靶制品，包括：靶，背板或背管，嵌件材料的层，所述靶的非溅射面侧的至少一部分轮廓化为具有面对称状的凹凸部，所述嵌件材料的层形成为紧贴所述轮廓化的表面，所述嵌件材料，由比重至少比构成靶的金属更轻的金属形成。