公开(公告)号：CN102986008B

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201180034072.2

申请日：2011-05-26

Applicant: MKS仪器股份有限公司

Inventor： J·赛韦特 ,  U·布拉默 ,  C·戈茨查克 ,  J·洛尔

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B01F3/04099 ,  C02F1/685 ,  C02F1/72 ,  H01L21/02041

Abstract: 提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。

公开(公告)号：CN102986008A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201180034072.2

申请日：2011-05-26

Applicant: MKS仪器股份有限公司

Inventor： J·赛韦特 ,  U·布拉默 ,  C·戈茨查克 ,  J·洛尔

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B01F3/04099 ,  C02F1/685 ,  C02F1/72 ,  H01L21/02041

Abstract: 本发明提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。