-
公开(公告)号：CN105992643A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201580008455.0
申请日：2015-02-13
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: C01B13/02 , A62D3/40 , B01D53/66 , B01D2257/106 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01J19/2415 , B01J19/243 , B01J2219/00132 , B01J2219/00135 , B01J2219/00159 , B01J2219/0277 , B01J2219/0286 , F23G5/10
Abstract: 本发明提供用于促进化学反应的系统和方法。所述系统可具有导电性组件。所述导电性组件能够保持化学混合物。所述导电性组件直接与电源连接并在电源开启时被加热。当化学混合物处于导电性组件内部且电源开启时，所述化学混合物被加热，从而产生化学反应。
-
公开(公告)号：CN103442779A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201280013230.0
申请日：2012-03-15
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: B01D19/0005 , B01D19/0031 , B01D19/0036 , B01D19/0063 , B01D19/0068 , C02F1/20 , C02F2103/04 , C02F2209/225 , C02F2209/245 , C02F2209/38 , C02F2209/40
Abstract: 一种从液体中选择性地清除溶解的气体的系统，所述系统能够包括具有两个第一接触器入口和两个第一接触器出口的第一接触器。第一接触器能与液体源在第一接触器的第一入口流体连通，并与惰性气体源在第一接触器的第二入口流体连通。第一接触器的第二入口能接受惰性气体，所述惰性气体从液体源中清除第一部分的气体。第一部分的清除的气体能从第一接触器的第一出口排出第一接触器。所述系统也能包括含有两个第二接触器入口和两个第二接触器出口的第二接触器。第二接触器能与第一接触器的第二出口流体连通，并与惰性气体在第二接触器的第二入口源流体连通。第二接触器的第二入口能接受惰性气体，所述惰性气体从液体源中清除第二部分的气体。第二部分的清除的气体能从第二接触器的第一出口排出第二接触器。
-
公开(公告)号：CN103442779B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201280013230.0
申请日：2012-03-15
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: B01D19/0005 , B01D19/0031 , B01D19/0036 , B01D19/0063 , B01D19/0068 , C02F1/20 , C02F2103/04 , C02F2209/225 , C02F2209/245 , C02F2209/38 , C02F2209/40
Abstract: 一种从液体中选择性地清除溶解的气体的系统，所述系统能够包括具有两个第一接触器入口和两个第一接触器出口的第一接触器。第一接触器能与液体源在第一接触器的第一入口流体连通，并与惰性气体源在第一接触器的第二入口流体连通。第一接触器的第二入口能接受惰性气体，所述惰性气体从液体源中清除第一部分的气体。第一部分的清除的气体能从第一接触器的第一出口排出第一接触器。所述系统也能包括含有两个第二接触器入口和两个第二接触器出口的第二接触器。第二接触器能与第一接触器的第二出口流体连通，并与惰性气体在第二接触器的第二入口源流体连通。第二接触器的第二入口能接受惰性气体，所述惰性气体从液体源中清除第二部分的气体。第二部分的清除的气体能从第二接触器的第一出口排出第二接触器。
-
公开(公告)号：CN105036284A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510299061.7
申请日：2007-10-17
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: C02F1/68
CPC classification number: C02F1/685 , C02F1/72 , Y10S261/07
Abstract: 提供了用于湿法清洁半导体器件的设备、系统和方法。具体说来，提供了可用来输送含所需浓度CO2的去离子水的系统，以及用来产生含所需浓度CO2的去离子水的方法，所述系统和方法可用于湿法清洁半导体器件。
-
公开(公告)号：CN102986008B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201180034072.2
申请日：2011-05-26
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01F3/04099 , C02F1/685 , C02F1/72 , H01L21/02041
Abstract: 提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100549894C
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN03811404.6
申请日：2003-04-25
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: G05D21/02
CPC classification number: G05D11/132 , B01F3/04496 , B01F5/0603 , B01F5/0606 , B01F2003/04886 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/60 , C01B2201/64 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/40 , G05D11/139 , Y10S134/902 , Y10S261/42
Abstract: 本发明公开了一种用于向超过一个加工设备供应臭氧化水的设备和方法。将来自于臭氧化水发生器的第一浓度臭氧化水与来自于水源的水混合成第二浓度臭氧化水。向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。向第二加工设备供应来自于臭氧化水发生器的臭氧化水，同时向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。
-
公开(公告)号：CN101528612A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038781.1
申请日：2007-10-17
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: C02F1/68
CPC classification number: C02F1/685 , C02F1/72 , Y10S261/07
Abstract: 提供了用于湿法清洁半导体器件的设备、系统和方法。具体说来，提供了可用来输送含所需浓度CO2的去离子水的系统，以及用来产生含所需浓度CO2的去离子水的方法，所述系统和方法可用于湿法清洁半导体器件。
-
公开(公告)号：CN101676220B
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN200910204983.X
申请日：2003-04-25
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: G05D11/132 , B01F3/04496 , B01F5/0603 , B01F5/0606 , B01F2003/04886 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/60 , C01B2201/64 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/40 , G05D11/139 , Y10S134/902 , Y10S261/42
Abstract: 本发明公开了一种用于向超过一个加工设备供应臭氧化水的设备和方法。将来自于臭氧化水发生器的第一浓度臭氧化水与来自于水源的水混合成第二浓度臭氧化水。向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。向第二加工设备供应来自于臭氧化水发生器的臭氧化水，同时向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。
-
公开(公告)号：CN102986008A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180034072.2
申请日：2011-05-26
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01F3/04099 , C02F1/685 , C02F1/72 , H01L21/02041
Abstract: 本发明提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。
-
公开(公告)号：CN101676220A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200910204983.X
申请日：2003-04-25
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: G05D11/132 , B01F3/04496 , B01F5/0603 , B01F5/0606 , B01F2003/04886 , C01B13/10 , C01B13/11 , C01B2201/60 , C01B2201/64 , C02F1/78 , C02F2201/782 , C02F2209/40 , G05D11/139 , Y10S134/902 , Y10S261/42
Abstract: 本发明公开了一种用于向超过一个加工设备供应臭氧化水的设备和方法。将来自于臭氧化水发生器的第一浓度臭氧化水与来自于水源的水混合成第二浓度臭氧化水。向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。向第二加工设备供应来自于臭氧化水发生器的臭氧化水，同时向第一加工设备供应第二浓度臭氧化水。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.026 seconds)
