-
公开(公告)号：CN105992643A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201580008455.0
申请日：2015-02-13
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: C01B13/02 , A62D3/40 , B01D53/66 , B01D2257/106 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01J19/2415 , B01J19/243 , B01J2219/00132 , B01J2219/00135 , B01J2219/00159 , B01J2219/0277 , B01J2219/0286 , F23G5/10
Abstract: 本发明提供用于促进化学反应的系统和方法。所述系统可具有导电性组件。所述导电性组件能够保持化学混合物。所述导电性组件直接与电源连接并在电源开启时被加热。当化学混合物处于导电性组件内部且电源开启时，所述化学混合物被加热，从而产生化学反应。
-
公开(公告)号：CN1930464A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200580007897.X
申请日：2005-03-07
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: G01N21/31
CPC classification number: G01N21/3151 , G01N2021/3181
Abstract: 一种装置和方法提供了对诸如臭氧化水中的臭氧等液体成分的测量。该装置(100)包括容纳液体的器皿(110)、被配置成引导第一光带和第二光带沿着基本共享的路径通过该器皿内的液体的光源(120、120a、120b)、以及感测该第一光带和第二光带的光电传感器(130)。该成分与第一光带相关联的吸收要大于与第二光带相关联的吸收。该方法包括响应于所感测的第二光带而对该组分的被测属性进行修改以改善被测属性的准确度。
-
公开(公告)号：CN102986008A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180034072.2
申请日：2011-05-26
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01F3/04099 , C02F1/685 , C02F1/72 , H01L21/02041
Abstract: 本发明提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101799405A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010129124.1
申请日：2005-03-07
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: G01N21/3151 , G01N2021/3181
Abstract: 一种装置和方法提供了对诸如臭氧化水中的臭氧等液体成分的测量。该装置(100)包括容纳液体的器皿(110)、被配置成引导第一光带和第二光带沿着基本共享的路径通过该器皿内的液体的光源(120、120a、120b)、以及感测该第一光带和第二光带的光电传感器(130)。该成分与第一光带相关联的吸收要大于与第二光带相关联的吸收。该方法包括响应于所感测的第二光带而对该组分的被测属性进行修改以改善被测属性的准确度。
-
公开(公告)号：CN1930464B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200580007897.X
申请日：2005-03-07
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: G01N21/31
CPC classification number: G01N21/3151 , G01N2021/3181
Abstract: 一种装置和方法提供了对诸如臭氧化水中的臭氧等液体成分的测量。该装置(100)包括容纳液体的器皿(110)、被配置成引导第一光带和第二光带沿着基本共享的路径通过该器皿内的液体的光源(120、120a、120b)、以及感测该第一光带和第二光带的光电传感器(130)。该成分与第一光带相关联的吸收要大于与第二光带相关联的吸收。该方法包括响应于所感测的第二光带而对该组分的被测属性进行修改以改善被测属性的准确度。
-
公开(公告)号：CN105036284A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201510299061.7
申请日：2007-10-17
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: C02F1/68
CPC classification number: C02F1/685 , C02F1/72 , Y10S261/07
Abstract: 提供了用于湿法清洁半导体器件的设备、系统和方法。具体说来，提供了可用来输送含所需浓度CO2的去离子水的系统，以及用来产生含所需浓度CO2的去离子水的方法，所述系统和方法可用于湿法清洁半导体器件。
-
公开(公告)号：CN102986008B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201180034072.2
申请日：2011-05-26
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B01F3/04099 , C02F1/685 , C02F1/72 , H01L21/02041
Abstract: 提供用于湿法清洁半导体器件的装置、系统和方法。具体地，提供能输送具有期望浓度CO2的去离子水的系统，以及生成用于湿法清洁半导体器件的具有期望浓度CO2的去离子水的方法。
-
公开(公告)号：CN101528612A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038781.1
申请日：2007-10-17
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: C02F1/68
CPC classification number: C02F1/685 , C02F1/72 , Y10S261/07
Abstract: 提供了用于湿法清洁半导体器件的设备、系统和方法。具体说来，提供了可用来输送含所需浓度CO2的去离子水的系统，以及用来产生含所需浓度CO2的去离子水的方法，所述系统和方法可用于湿法清洁半导体器件。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.02 seconds)
