公开(公告)号：CN110998446B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201880049505.3

申请日：2018-07-04

Applicant: SK新技术株式会社 ,  爱思开致新株式会社

Inventor： 郑旼镐 ,  金喆禹 ,  咸珍守 ,  金仙珠 ,  朴明俊 ,  李濫揆 ,  李慧秀

IPC: G03F7/09 ,  C08G12/26

Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。

公开(公告)号：CN110998446A

公开(公告)日：2020-04-10

申请号：CN201880049505.3

申请日：2018-07-04

Applicant: SK新技术株式会社 ,  SK ,  综合化学株式会社

Inventor： 郑旼镐 ,  金喆禹 ,  咸珍守 ,  金仙珠 ,  朴明俊 ,  李濫揆 ,  李慧秀

IPC: G03F7/09 ,  C08G12/26

Abstract: 本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物和包含其的底部抗反射涂层形成用组合物。更具体地，本发明涉及一种底部抗反射涂层形成用聚合物，其能够减轻光刻胶层的基板上的曝光光和照射光的反射，所述光刻胶层在制造半导体设备的光刻工艺中涂布在基板上；以及包含所述底部抗反射涂层形成用聚合物的底部抗反射涂层形成用组合物。