公开(公告)号：CN105970190A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201610136744.5

申请日：2016-03-10

申请人： SPTS科技有限公司

发明人： 丹尼尔·T·阿查德 ,  斯蒂芬·R·伯吉斯 ,  马克·I·卡拉瑟斯 ,  安德鲁·普赖斯 ,  基思·E·布查恩 ,  凯瑟琳·克鲁克

IPC分类号： C23C16/50

摘要： 根据本发明，提供了等离子体增强化学气相沉积(PE‑CVD)设备和方法，所述设备包括：包括周向泵送通道的腔室；设置在所述腔室内的基板支撑件；将气体引入到所述腔室中的一个或多个气体入口；在所述腔室中产生等离子体的等离子体产生装置；和定位在所述腔室中的上部元件和下部元件,其中,所述上部元件与所述基板支撑件间隔开以限制所述等离子体并界定第一周向泵送间隙，并且所述上部元件用作所述周向泵送通道的径向内壁，并且，所述上部元件与所述下部元件沿径向间隔开以界定第二周向泵送间隙，该第二周向泵送间隙用作所述周向泵送通道的入口，其中，所述第二周向泵送间隙比所述第一周向泵送间隙更宽。

公开(公告)号：CN105970190B

公开(公告)日：2019-08-30

申请号：CN201610136744.5

申请日：2016-03-10

申请人： SPTS科技有限公司

发明人： 丹尼尔·T·阿查德 ,  斯蒂芬·R·伯吉斯 ,  马克·I·卡拉瑟斯 ,  安德鲁·普赖斯 ,  基思·E·布查恩 ,  凯瑟琳·克鲁克

IPC分类号： C23C16/50

摘要： 根据本发明，提供了等离子体增强化学气相沉积(PE‑CVD)设备和方法，所述设备包括：包括周向泵送通道的腔室；设置在所述腔室内的基板支撑件；将气体引入到所述腔室中的一个或多个气体入口；在所述腔室中产生等离子体的等离子体产生装置；和定位在所述腔室中的上部元件和下部元件,其中,所述上部元件与所述基板支撑件间隔开以限制所述等离子体并界定第一周向泵送间隙，并且所述上部元件用作所述周向泵送通道的径向内壁，并且，所述上部元件与所述下部元件沿径向间隔开以界定第二周向泵送间隙，该第二周向泵送间隙用作所述周向泵送通道的入口，其中，所述第二周向泵送间隙比所述第一周向泵送间隙更宽。