静电吸盘及处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111668148B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202010142829.0

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,与所述气体导入路相对,所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域,所述第1多孔区域具有:多个第1疏松部分;及第1紧密部分,具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度,所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸,所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间,所述第1疏松部分具有第1壁部,在与所述第1方向大致正交的第2方向上,所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值,所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。

    静电吸盘
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111128838B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN201910976997.7

    申请日:2019-10-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在所述基座板与所述陶瓷电介体基板的所述第1主面之间且与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述第1多孔质部具有分别具有多个孔且相互离开设置的多个疏松部分,所述多个疏松部分分别在相对于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向以规定角度倾斜的方向上延伸。

    静电吸盘
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111128837B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN201910976863.5

    申请日:2019-10-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部,所述第1多孔质部具有:多孔部,具有多个孔;及第1致密部,比所述多孔部更致密,在向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述多孔部与第1孔部并不重叠。

    静电吸盘及处理装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111668151A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010143616.X

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述气体导入路之间,所述陶瓷电介体基板具有多个孔,其连通所述槽与所述气体导入路,在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板,所述第1多孔质部具有:多孔区域,具有多个孔;及致密区域,比所述多孔区域更致密,所述多孔区域还具有致密部,当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时,设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。

    静电吸盘
    5.
    发明公开
    静电吸盘 审中-实审

    公开(公告)号:CN118737928A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410835027.6

    申请日:2019-10-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1主面与所述第1多孔质部之间的第1孔部,所述第1多孔质部具有:多孔部,具有多个孔;及第1致密部,比所述多孔部更致密,多孔部具有:多个疏松部分,具有包含第1孔、第2孔的多个孔;及紧密部分,具有比疏松部分的密度更高的密度,在与第1方向大致正交的第2方向上,分别设置于多个疏松部分的多个孔的尺寸,比紧密部分的尺寸更小。

    静电吸盘及处理装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111668150B

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202010143417.9

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;第1多孔质部,与所述气体导入路相对;及第2多孔质部,所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部,所述第1多孔质部具有:第1多孔区域;及第1致密区域,所述第1多孔区域还具有第1致密部,所述第2多孔质部具有:第2多孔区域;及第2致密区域,所述第2多孔区域还具有第2致密部,当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠,或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。

    静电吸盘及处理装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111668148A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010142829.0

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;及第1多孔质部,与所述气体导入路相对,所述第1多孔质部包含第1多孔区域、比所述第1多孔区域更致密的第1致密区域,所述第1多孔区域具有:多个第1疏松部分;及第1紧密部分,具有比所述第1疏松部分的密度更高的密度,所述多个第1疏松部分在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向上延伸,所述第1紧密部分位于所述多个第1疏松部分的彼此之间,所述第1疏松部分具有第1壁部,在与所述第1方向大致正交的第2方向上,所述第1壁部的尺寸的最小值小于所述第1紧密部分的尺寸的最小值,所述气体导入路的至少一部分由曲线形成。

    静电吸盘及处理装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111668151B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202010143616.X

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述气体导入路之间,所述陶瓷电介体基板具有多个孔,其连通所述槽与所述气体导入路,在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板,所述第1多孔质部具有:多孔区域,具有多个孔;及致密区域,比所述多孔区域更致密,所述多孔区域还具有致密部,当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时,设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。

    静电吸盘及处理装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111668150A

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN202010143417.9

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 本发明的静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、第2主面;基座板,具有气体导入路;第1多孔质部,与所述气体导入路相对;及第2多孔质部,所述陶瓷电介体基板具有所述第1主面及第1孔部,所述第1多孔质部具有:第1多孔区域;及第1致密区域,所述第1多孔区域还具有第1致密部,所述第2多孔质部具有:第2多孔区域;及第2致密区域,所述第2多孔区域还具有第2致密部,当向垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向的平面进行投影时,构成为所述第1致密部与所述第1孔部发生重叠,所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分发生重叠,或者所述第2致密部的一部分与所述第1致密部的一部分接触。

    静电吸盘
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111128838A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201910976997.7

    申请日:2019-10-15

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够进一步抑制电弧放电的发生。具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路;及第1多孔质部,设置在所述基座板与所述陶瓷电介体基板的所述第1主面之间且与所述气体导入路相对的位置,其特征为,所述第1多孔质部具有分别具有多个孔且相互离开设置的多个疏松部分,所述多个疏松部分分别在相对于从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向以规定角度倾斜的方向上延伸。

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