冷压溅射靶
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101460650A

    公开(公告)日:2009-06-17

    申请号:CN200780020115.5

    申请日:2007-05-30

    IPC分类号: C23C14/34

    CPC分类号: C23C14/3414

    摘要: 本发明涉及一种包含溅射材料的溅射靶,所述溅射材料由合金或材料混合物制成,该合金或材料混合物由至少两种处于热力学不平衡状态的组分构成。根据本发明,所述组分是通过等静压冷压法或单轴冷压法来压缩的。