一种靶材加工装置及其加工方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118950353A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411162244.X

    申请日:2024-08-23

    摘要: 本发明属于靶材加工技术领域,且公开了一种靶材加工装置及其加工方法,包括两个安装架以及固定在安装架顶部的连接曲板,所述安装架的上方设有隔档组件,所述隔档组件的顶部和底部分别固定设有上料筒和一号弧筒。本发明通过将气体输入到复合处理组件的内部,配合夹持部从内部对管状靶材进行夹持固定,并将管状靶材限定在环绕空间中,配合旋转状态的管状靶材,利用限定环绕空间中喷入的雾化涂层,在转动下快速完成管状靶材外表面的全面涂覆,实际管状靶材涂层加工处理效果好,单次处理即可完整外表面的全面涂布处理,并配合环绕空间,避免喷涂的雾化涂料快速分散到环境中,减小泄漏和浪费,大大提高了实际喷涂加工效率。

    一种高纯铝平面靶材磨削加工装置

    公开(公告)号:CN118752328B

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411241285.8

    申请日:2024-09-05

    摘要: 本发明公开了一种高纯铝平面靶材磨削加工装置,属于靶材加工技术领域,其包括:底座,所述底座的顶部设置有控制器和用于固定靶材的固定夹具;磨削机构,用于实现靶材的磨削加工,所述磨削机构包括升降框、平移板、安装架、侧板和磨削轮;冷却机构,用于对靶材和磨削轮进行冷却,所述冷却机构包括压缩箱、喷淋筒、连接轴和旋转电机。本发明通过设置的磨削机构、冷却机构与红外测温仪的配合,可在磨削过程中实现对磨削区域的温度监测,并根据监测结果自动调整磨削进给速度和冷却强度,以避免过热导致靶材变形或磨具损坏,并通过设置的压力传感器监测磨具受到的阻力,根据阻力调整进给速度,并及时体现更换磨具。

    一种高纯铝平面靶材磨削加工装置

    公开(公告)号:CN118752328A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202411241285.8

    申请日:2024-09-05

    摘要: 本发明公开了一种高纯铝平面靶材磨削加工装置,属于靶材加工技术领域,其包括:底座,所述底座的顶部设置有控制器和用于固定靶材的固定夹具;磨削机构,用于实现靶材的磨削加工,所述磨削机构包括升降框、平移板、安装架、侧板和磨削轮;冷却机构,用于对靶材和砂轮进行冷却,所述冷却机构包括压缩箱、喷淋筒、连接轴和旋转电机。本发明通过设置的磨削机构、冷却机构与红外测温仪的配合,可在磨削过程中实现对磨削区域的温度监测,并根据监测结果自动调整磨削进给速度和冷却强度,以避免过热导致靶材变形或磨具损坏,并通过设置的压力传感器监测磨具受到的阻力,根据阻力调整进给速度,并及时体现更换磨具。

    一种晶格可调的氮化钛旋转靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN118957483A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411034834.4

    申请日:2024-07-31

    IPC分类号: C23C4/134 C23C4/08 C23C4/131

    摘要: 本发明涉及靶材制备技术领域,具体为一种晶格可调的氮化钛旋转靶材的制备方法,包括以下步骤:制备靶材喷涂粉末、喷雾干燥,使掺杂元素均匀分布于粉末中、喷涂工件基体加工处理、喷涂工件打底层、采用大气等离子喷涂工艺,在工件上喷涂靶材喷涂粉末,形成有效涂层、喷涂完成后进行工件机加工处理;该发明可根据实际需求在氮化钛靶材喷涂原料中添加不同的金属粉末,实现晶格常数可调,以匹配基体晶格尺寸,从而提高喷涂层与基体的结合率,从而提高靶材导电率。

    一种靶材加工用抛光设备

    公开(公告)号:CN118404474A

    公开(公告)日:2024-07-30

    申请号:CN202410876510.9

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本发明公开了一种靶材加工用抛光设备,属于靶材加工技术领域,其包括:基座;夹具,所述夹具用于装夹靶材并控制其旋转,所述夹具设置在所述基座的顶部;校准机构,用于校准靶材的装夹平整度,所述校准机构包括第一电动推杆、平移座、升降台和旋转台,所述第一电动推杆固定安装在所述基座的内部,且所述平移座固定连接在所述平移座的一侧,所述平移座的顶部固定安装有第二电动推杆,所述第二电动推杆的输出端固定连接在所述升降台的底部,且所述升降台的顶部固定连接有固定轴。本发明能够在抛光前和抛光过程中对靶材的装夹平整度进行检测和校准,并能够在抛光完成后检测抛光效果,从而保证抛光精细度。

    一种掺杂金属的SiC基旋转靶材及其制造方法

    公开(公告)号:CN104593714A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201410841842.X

    申请日:2014-12-30

    IPC分类号: C23C4/10

    CPC分类号: C23C4/10

    摘要: 本发明提供了一种掺杂金属的SiC基旋转靶材,以质量百分比计,该靶材包括80-99.5%的SiC和0.5-20%的掺杂金属,其中所述掺杂金属包括Ti、Al、Cr、Ni、Cu、Ag、Sn和Zn中的一种或几种。本发明还提供了一种掺杂金属的SiC基旋转靶材的制备方法,包括:掺杂金属的SiC喷涂粉的制备;喷涂基体的处理;喷涂打底层;采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层。本发明提供的掺杂金属的SiC基旋转靶材及其制备方法,掺杂金属的SiC基旋转靶材结构致密、成分均匀、导电性好、无裂纹,其喷涂长度和直径不受限制,其靶材的相对密度可达到90%-95%之间。

    一种靶材加工用抛光设备

    公开(公告)号:CN118404474B

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410876510.9

    申请日:2024-07-02

    摘要: 本发明公开了一种靶材加工用抛光设备,属于靶材加工技术领域,其包括:基座;夹具,所述夹具用于装夹靶材并控制其旋转,所述夹具设置在所述基座的顶部;校准机构,用于校准靶材的装夹平整度,所述校准机构包括第一电动推杆、平移座、升降台和旋转台,所述第一电动推杆固定安装在所述基座的内部,且所述平移座固定连接在所述平移座的一侧,所述平移座的顶部固定安装有第二电动推杆,所述第二电动推杆的输出端固定连接在所述升降台的底部,且所述升降台的顶部固定连接有固定轴。本发明能够在抛光前和抛光过程中对靶材的装夹平整度进行检测和校准,并能够在抛光完成后检测抛光效果,从而保证抛光精细度。

    一种掺杂金属的SiC基旋转靶材及其制造方法

    公开(公告)号:CN104593714B

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201410841842.X

    申请日:2014-12-30

    IPC分类号: C23C4/10 C23C4/134 C23C14/34

    摘要: 本发明提供了一种掺杂金属的SiC基旋转靶材,以质量百分比计,该靶材包括80‑99.5%的SiC和0.5‑20%的掺杂金属,其中所述掺杂金属包括Ti、Al、Cr、Ni、Cu、Ag、Sn和Zn中的一种或几种。本发明还提供了一种掺杂金属的SiC基旋转靶材的制备方法,包括:掺杂金属的SiC喷涂粉的制备;喷涂基体的处理;喷涂打底层;采用等离子喷涂工艺在喷涂基体上喷涂掺杂金属的SiC基涂层。本发明提供的掺杂金属的SiC基旋转靶材及其制备方法,掺杂金属的SiC基旋转靶材结构致密、成分均匀、导电性好、无裂纹,其喷涂长度和直径不受限制,其靶材的相对密度可达到90%‑95%之间。