从流化床沉积反应器顶部移除颗粒物质的装置和方法

    公开(公告)号:CN101743057B

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN200880018753.8

    申请日:2008-07-10

    Abstract: 本发明提供了从流化床沉积反应器顶部移除颗粒物质的装置和方法。从反应器的顶部移除产品可以实现降低的脱离高度并且提供一种控制床的高度水平的被动装置,尽管上述沉积增加了床的重量和高度。降低脱离高度的好处是允许在较短的反应器总体长度中使用较高的流化床,从而降低反应器成本并且增加生产。气体入口与产品出口的分离允许气体入口区域比产品出口更凉。由入口气体造成的产品研磨与产品出口的分离,降低了产品中的种子损失,并产生更加均匀的产品。在相同地方移除热的产品和热的气体允许在单个步骤中从两者回收能量。

    通过催化加氢纯化羧酸

    公开(公告)号:CN102892742A

    公开(公告)日:2013-01-23

    申请号:CN201180009759.0

    申请日:2011-02-14

    Abstract: 本发明涉及用于生产芳族羧酸的方法,包括:a)将粗芳族羧酸溶液引入到纯化反应容器中,其中所述纯化反应容器在压力下操作,b)将氢气引入所述纯化反应容器中,c)当溶液沿垂直管道壁向下流到分配器上时,将氢气溶解在粗芳族多聚羧酸溶液中,其中所述纯化反应容器的气液接触面积与设备处理量的比率为至少0.55m2/te/h羧酸,用于将氢气溶解在粗芳族多聚羧酸溶液中以产生反应溶液,和d)将反应溶液与负载催化剂床接触以产生纯化的芳族羧酸,其中所述负载催化剂床浸没在反应溶液中,并且保持反应溶液的液位高于负载催化剂床。

    煅烧方法和煅烧设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102089071A

    公开(公告)日:2011-06-08

    申请号:CN200980127075.3

    申请日:2009-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种用于煅烧粉末状或者微小颗粒状石膏的方法,具有两个步骤:在煅烧研磨机(3)中对石膏快速煅烧和在反应容器(6)中对热石膏再煅烧。根据本发明设计如下,即反应容器(6)中的再煅烧在加入潮湿气体的条件下完成,在此不对反应容器(6)进行加热。再煅烧经过很长的停留时间完成,该停留时间至少10倍于,优选50到100倍于快速煅烧时的停留时间。本发明在没有额外能源消费下实现了煅烧的完成,在此额外地在快速煅烧时进一步将存留的二水合物转化为半水化物而减小了不期望的硬石膏成分。由此既实现了产品质量的标准化也实现了产品质量的提高。可以降低位于前面的煅烧研磨机(3)的温度,这使额外的节约能源成为可能。本发明也可以用于加速煅烧后石膏的老化。

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