高通量双折射干涉成像光谱装置

    公开(公告)号:CN105547480A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201510982227.5

    申请日:2015-12-24

    CPC classification number: G01J3/4537

    Abstract: 本发明公开了一种高通量双折射干涉成像光谱装置,包括沿光路方向依次放置的前置成像物镜、准直物镜、组合起偏器、前置半波片、双折射剪切器、后置半波片、组合检偏器、后置成像物镜和探测器。所述组合起偏器和组合检偏器结构相同,包括第一偏振分光棱镜、第二偏振分光棱镜和直角棱镜,第一偏振分光棱镜和第二偏振分光棱镜的分光面相互垂直,直角棱镜的两个直角面镀制高反膜,直角棱镜的斜边与第一偏振分光棱镜的反射光出射面连接,与第二偏振分光棱镜反射光入射面连接。本发明相比于传统的双折射干涉成像光谱系统,光通量由原来的不足25%提高到80%以上。干涉信息的叠加提高了系统信噪比,有利于提高光谱复原精度。

    一种基于微光学器件的径向剪切干涉波前探测装置

    公开(公告)号:CN106813778A

    公开(公告)日:2017-06-09

    申请号:CN201710086541.4

    申请日:2017-02-17

    CPC classification number: G01J3/447 G01J3/4537

    Abstract: 本发明公开了一种基于微光学器件的径向剪切干涉波前探测装置,包括偏振方向调制器(1),偏振环路径向剪切系统CRSS,微相位调制阵列MPA以及光电探测器(9),微相位调制阵列MPA由微波片阵列(7)和检偏器(8)组成,利用双折射晶体双折射效应,采用微光学加工方法制作微相位调制阵列实现对径向剪切光束空间相移干涉,通过随机相移算法反演待测光束波前相位分布。本发明采用全共光路结构,能够环境振动免疫,干涉图稳定;结构紧凑,便于移植;微光学器件尺度大,精度要求低,成本低廉,便于批量化生产;光谱范围宽,对色差不敏感。本发明可应用于自适应光学、光学检测、热成像等领域。

    光模块及其制造方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103547528B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201280023910.0

    申请日:2012-04-04

    Abstract: 光模块具备具有通过蚀刻硅区域(11)而形成的光透过性光学部件(12)的第1板状构件(10)、以及具有用于反射透过了光透过性光学部件(12)的光的光反射性光学部件(镜(21~24))的第2板状构件(20),第1和第2板状构件(10,20)相互接合,透过光透过性光学部件(12)的光的光路沿着第1板状构件(10)的部件形成面和第2板状构件(20)的主面。由此,实现了能够将光反射性光学部件与光透过性光学部件接近地配置且即使在与基板的特性相关的要求根据光学部件而相反的情况下也可以满足这些要求的光模块及其制造方法。

    光模块及其制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103547528A

    公开(公告)日:2014-01-29

    申请号:CN201280023910.0

    申请日:2012-04-04

    Abstract: 光模块具备具有通过蚀刻硅区域(11)而形成的光透过性光学部件(12)的第1板状构件(10)、以及具有用于反射透过了光透过性光学部件(12)的光的光反射性光学部件(镜(21~24))的第2板状构件(20),第1和第2板状构件(10,20)相互接合,透过光透过性光学部件(12)的光的光路沿着第1板状构件(10)的部件形成面和第2板状构件(20)的主面。由此,实现了能够将光反射性光学部件与光透过性光学部件接近地配置且即使在与基板的特性相关的要求根据光学部件而相反的情况下也可以满足这些要求的光模块及其制造方法。

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