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公开(公告)号：CN101738876A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910225941.4
申请日：2009-11-23
申请人： 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
发明人： 青木忠久
CPC分类号： G03G15/326 , G03G13/286 , G03G15/04072 , G03G15/043 , G03G15/6591 , G03G2215/00523
摘要： 本发明提供了一种显影方法和一种显影设备。显影方法包括如下步骤：在转盘上设置抗蚀剂基板，抗蚀剂基板包括基板、形成在基板上的无机抗蚀剂层和通过曝光形成的潜像；释放显影剂到无机抗蚀剂层的上表面上的显影剂涂布位置，同时转动转盘，显影剂涂布位置远离抗蚀剂基板的中心；用激光辐照无机抗蚀剂层的上表面上的监测位置，监测位置与显影剂涂布位置不同；以及连续释放显影剂，同时检测无机抗蚀剂层的上表面反射的激光的零级光和一级光的光量，并且监测一级光对零级光的光量比，直到光量比变为预定值。
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公开(公告)号：CN1967384A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200610087175.6
申请日：2006-06-15
申请人： LG.菲利浦LCD株式会社
IPC分类号： G03F7/14 , G03F7/20 , H01L21/00 , G02F1/1333
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G02F2001/136295 , G02F2202/36 , G03G13/26 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286 , H01L27/124 , H01L27/1292
摘要： 本发明提供了一种制造印模、薄膜晶体管和采用该薄膜晶体管的液晶显示器件的方法。该印模具有相对于基板改进的接触性能。使用该印模在基板上形成带电区域，并且涂布或者电镀充有与该带电区域的电荷相反的电荷的纳米材料以形成自组装单层(SAM)。因此，该薄膜晶体管和该液晶显示器件能够具有精确的纳米图案，由此提高该器件的性能。
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公开(公告)号：CN102334017B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN200980157503.7
申请日：2009-12-15
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： C07D487/22 , B41C1/1041 , B41M3/14 , C09B47/00 , C09B47/0675 , C09B47/30 , C09B47/305 , C09B57/008 , C09D11/037 , C09D11/101 , C09D11/322 , G03G9/0918 , G03G9/122 , G03G13/28 , G03G13/286
摘要： 本发明提供一种证明真伪的方法，其是证明产品或支撑体的真伪的方法，其中，使用由下述通式(I)表示的化合物，式中，R11～R46分别独立地表示氢原子或取代基，R11～R46中，彼此相邻接的基团可以互相键合而形成环，M表示氢原子、金属离子或含金属离子的基团，n为1或2。根据本发明，红外线的吸收效率高，红外吸收的经时劣化得到改良。
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公开(公告)号：CN1295750C
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200310120571.0
申请日：2003-12-12
申请人： 松下电器产业株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/00
CPC分类号： G03G13/283 , G03F7/2041 , G03G13/286 , Y10S430/162
摘要： 本发明公开了一种图案形成方法。其目的在于：使通过浸渍光刻而得到的抗蚀图案的形状良好。形成含有吸湿性化合物的抗蚀膜102之后，在将水103供向该抗蚀膜102上的状态下选择曝光光104照射抗蚀膜102而进行图案曝光。对已进行了图案曝光的抗蚀膜102进行显像处理而形成抗蚀图案105。
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公开(公告)号：CN102334017A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200980157503.7
申请日：2009-12-15
申请人： 富士胶片株式会社
CPC分类号： C07D487/22 , B41C1/1041 , B41M3/14 , C09B47/00 , C09B47/0675 , C09B47/30 , C09B47/305 , C09B57/008 , C09D11/037 , C09D11/101 , C09D11/322 , G03G9/0918 , G03G9/122 , G03G13/28 , G03G13/286
摘要： 本发明提供一种证明真伪的方法，其是证明产品或支撑体的真伪的方法，其中，使用由下述通式(I)表示的化合物，式中，R11～R46分别独立地表示氢原子或取代基，R11～R46中，彼此相邻接的基团可以互相键合而形成环，M表示氢原子、金属离子或含金属离子的基团，n为1或2。根据本发明，红外线的吸收效率高，红外吸收的经时劣化得到改良。
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公开(公告)号：CN101124089B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200580002142.0
申请日：2005-01-12
申请人： 加利福尼亚大学董事会
发明人： 陈勇
IPC分类号： B41D7/00 , B41C1/06 , B41F9/00 , B41F33/00 , H05C1/04 , B05D1/00 , B05D3/00 , H01T14/00 , H05H1/48
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要： 一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。
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公开(公告)号：CN101438209A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200780016482.8
申请日：2007-04-25
申请人： 柯尼卡美能达医疗印刷器材株式会社
发明人： 松村智之
IPC分类号： G03F7/027 , C08F290/06 , C08G18/67 , G03F7/00 , G03F7/028
CPC分类号： C09D175/16 , C08F290/06 , C08F290/061 , C08F290/14 , C08F290/141 , C08G18/3271 , C08G18/672 , C08G18/7614 , C08G18/7635 , G03F7/027 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要： 本发明提供适于在发波长为350nm～450nm的激光中曝光，高灵敏度且保存性良好的光敏性平版印刷版材料。该光敏性平版印刷版材料，其包括支持体和位于支持体上的下述光敏层，所述光敏层含有(A)聚合引发剂、(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物、(C)增感染料以及(D)高分子粘结材料，其中，该光敏层含有下述反应产物作为上述(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物，所述反应产物是(a)通式HO－(CH2)n－NH－CHR1R2(式中，R1、R2分别表示烷基、芳烷基，R1和R2任选结合形成环，n表示1～10的整数)所示化合物、(b)二异氰酸酯化合物以及(c)分子内具有羟基的甲基丙烯酸酯化合物或丙烯酸酯化合物的反应产物。
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公开(公告)号：CN101738876B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200910225941.4
申请日：2009-11-23
申请人： 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
发明人： 青木忠久
CPC分类号： G03G15/326 , G03G13/286 , G03G15/04072 , G03G15/043 , G03G15/6591 , G03G2215/00523
摘要： 本发明提供了一种显影方法和一种显影设备。显影方法包括如下步骤：在转盘上设置抗蚀剂基板，抗蚀剂基板包括基板、形成在基板上的无机抗蚀剂层和通过曝光形成的潜像；释放显影剂到无机抗蚀剂层的上表面上的显影剂涂布位置，同时转动转盘，显影剂涂布位置远离抗蚀剂基板的中心；用激光辐照无机抗蚀剂层的上表面上的监测位置，监测位置与显影剂涂布位置不同；以及连续释放显影剂，同时检测无机抗蚀剂层的上表面反射的激光的零级光和一级光的光量，并且监测一级光对零级光的光量比，直到光量比变为预定值。
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公开(公告)号：CN1967384B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200610087175.6
申请日：2006-06-15
申请人： 乐金显示有限公司
IPC分类号： G03F7/14 , G03F7/20 , H01L21/00 , G02F1/1333
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y20/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G02F2001/136295 , G02F2202/36 , G03G13/26 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286 , H01L27/124 , H01L27/1292
摘要： 本发明提供了一种制造印模、薄膜晶体管和采用该薄膜晶体管的液晶显示器件的方法。该印模具有相对于基板改进的接触性能。使用该印模在基板上形成带电区域，并且涂布或者电镀充有与该带电区域的电荷相反的电荷的纳米材料以形成自组装单层(SAM)。因此，该薄膜晶体管和该液晶显示器件能够具有精确的纳米图案，由此提高该器件的性能。
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公开(公告)号：CN101124089A
公开(公告)日：2008-02-13
申请号：CN200580002142.0
申请日：2005-01-12
申请人： 加利福尼亚大学董事会
发明人： 陈勇
IPC分类号： B41D7/00 , B41C1/06 , B41F9/00 , B41F33/00 , H05C1/04 , B05D1/00 , B05D3/00 , H01T14/00 , H05H1/48
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03G13/28 , G03G13/283 , G03G13/286
摘要： 一种纳米级光刻方法，其中将具有导电表面和绝缘表面的图案的可再用导电掩模设置在衬底上，该衬底表面包含位于埋入的导电层上的电响应抗蚀剂层。当在导电掩模和埋入的导电层之间施加电场时，在邻近掩模的导电区域的部分中，改变抗蚀剂层。根据从掩模转移的图案，对衬底表面进行选择性处理，改变掩模去除以除去部分抗蚀剂层。衬底可以是目标衬底，或者衬底可以用于另一个衬底的光刻掩模步骤。在本发明的一个方案中，施加电荷的电极可以分为例如多个行和列，其中可以产生任何想得到的图案而不需要制造特定的掩模。
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