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公开(公告)号:CN102460129B
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:CN201080027901.X
申请日:2010-04-13
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号: G01N21/94 , G01N21/956
CPC分类号: G03F1/84 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G03H1/0443 , G03H2001/0264 , G03H2001/0447 , G03H2001/0456 , G03H2001/0458 , G03H2222/43 , G03H2223/12 , G03H2223/55
摘要: 本发明公开用于物体检查的系统和方法,尤其是用在光刻过程中的掩模版检查。所述方法包括用干涉测量法结合参照辐射束与探测辐射束;和存储它们的复场图像。然后将一个物体的复场图像与参照物体的复场图像对比,以确定差值或差异。所述系统和方法在掩模版的缺陷检查中尤其有用。
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公开(公告)号:CN102597890A
公开(公告)日:2012-07-18
申请号:CN201080050478.5
申请日:2010-11-12
申请人: ASML控股股份有限公司
CPC分类号: G03H1/00 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N21/95623 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03H1/02 , G03H1/041 , G03H1/0443 , G03H1/08 , G03H2001/0204 , G03H2001/0452 , G03H2222/15 , G03H2222/43 , G03H2222/45 , G03H2223/12 , G03H2223/26 , G03H2223/53
摘要: 公开了用于全息掩模检查的设备、方法和光刻系统。全息掩模检查系统(300,600,700)包括照射源(330)、空间滤光片(350)和图像传感器(380)。照射源配置成将辐射束(331)照射到掩模(310)的目标部分上。空间滤光片(350)布置在光学系统(390,610,710)的傅里叶变换光瞳平面中,其中空间滤光片接收来自所述掩模的目标部分的被反射的辐射束(311)的至少一部分。光学系统布置成组合(360,660,740)被反射的辐射束(311)的所述部分与参考辐射束(361,331)以产生组合的辐射束。此外,图像传感器(380)配置成捕获组合的辐射束的全息图像。图像可以包含一个或更多的掩模缺陷。
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公开(公告)号:CN102460129A
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:CN201080027901.X
申请日:2010-04-13
申请人: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号: G01N21/94 , G01N21/956
CPC分类号: G03F1/84 , G01N21/94 , G01N21/95607 , G01N2021/95676 , G03H1/0443 , G03H2001/0264 , G03H2001/0447 , G03H2001/0456 , G03H2001/0458 , G03H2222/43 , G03H2223/12 , G03H2223/55
摘要: 本发明公开用于物体检查的系统和方法,尤其是用在光刻过程中的掩模版检查。所述方法包括用干涉测量法结合参照辐射束与探测辐射束;和存储它们的复场图像。然后将一个物体的复场图像与参照物体的复场图像对比,以确定差值或差异。所述系统和方法在掩模版的缺陷检查中尤其有用。
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