公开(公告)号：CN102472961A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080029069.7

申请日：2010-07-16

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： E·凯蒂 ,  R·哈内德 ,  Y·施玛埃夫 ,  R·萨拉尔德森 ,  R·雅克布

IPC: G03F1/84

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F7/7065

Abstract: 公开的是用于时间差分掩模版检查的系统和方法。污染物例如通过确定所述掩模版的至少一部分的第一识别标识与所述掩模版的所述部分的在所述第一识别标识之后产生的第二识别标识之间的差别而被确定。

公开(公告)号：CN102597890A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080050478.5

申请日：2010-11-12

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： R·萨拉尔德森 ,  A·邓鲍夫 ,  E·凯蒂 ,  Y·沙玛莱 ,  R·雅克布

IPC: G03H1/00 ,  G03H1/08 ,  G01N21/956 ,  G02B27/46 ,  G03F1/00 ,  G03F1/84 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03H1/00 ,  G01N21/94 ,  G01N21/95607 ,  G01N21/95623 ,  G01N2021/95676 ,  G03F1/84 ,  G03H1/02 ,  G03H1/041 ,  G03H1/0443 ,  G03H1/08 ,  G03H2001/0204 ,  G03H2001/0452 ,  G03H2222/15 ,  G03H2222/43 ,  G03H2222/45 ,  G03H2223/12 ,  G03H2223/26 ,  G03H2223/53

Abstract: 公开了用于全息掩模检查的设备、方法和光刻系统。全息掩模检查系统(300，600，700)包括照射源(330)、空间滤光片(350)和图像传感器(380)。照射源配置成将辐射束(331)照射到掩模(310)的目标部分上。空间滤光片(350)布置在光学系统(390，610，710)的傅里叶变换光瞳平面中，其中空间滤光片接收来自所述掩模的目标部分的被反射的辐射束(311)的至少一部分。光学系统布置成组合(360，660，740)被反射的辐射束(311)的所述部分与参考辐射束(361，331)以产生组合的辐射束。此外，图像传感器(380)配置成捕获组合的辐射束的全息图像。图像可以包含一个或更多的掩模缺陷。

公开(公告)号：CN102472961B

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201080029069.7

申请日：2010-07-16

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： E·凯蒂 ,  R·哈内德 ,  Y·施玛埃夫 ,  R·萨拉尔德森 ,  R·雅克布

IPC: G03F1/84

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F7/7065

Abstract: 公开的是用于时间差分掩模版检查的系统和方法。污染物例如通过确定所述掩模版的至少一部分的第一识别标识与所述掩模版的所述部分的在所述第一识别标识之后产生的第二识别标识之间的差别而被确定。