公开(公告)号：CN105280200A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201410720604.3

申请日：2014-12-02

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 渡部彰 ,  木村香里 ,  岩崎刚之

IPC: G11B5/66

CPC classification number: G11B5/84 ,  G11B5/7305 ,  G11B5/733 ,  G11B5/855

Abstract: 本发明的实施方式提供能够得到基板与粒子之间的良好密合性的磁记录介质的制造方法。实施方式涉及的磁记录介质的制造方法包括：在基板上形成熔敷层，在熔敷层上形成含有硅的保持层，使用含有能够与熔敷层熔敷的金属的粒子在保持层上形成单粒子层，使用含有氢氟酸和过氧化氢的蚀刻溶液对保持层中的二氧化硅进行蚀刻，将粒子埋入保持层内直到与熔敷层接触，通过加热使粒子与熔敷层熔敷，以及在单粒子层上形成磁记录层。

公开(公告)号：CN100427304C

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：CN02824314.5

申请日：2002-12-04

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 高田育 ,  窪田有理 ,  三村尚

IPC: B32B27/00

CPC classification number: G11B5/7305 ,  B32B27/08 ,  G03C1/7954 ,  H01G11/48 ,  Y02E60/13 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/31533 ,  Y10T428/31786 ,  Y10T428/31938

Abstract: 本发明涉及在热塑性树脂薄膜的至少一面上层压含有50重量%或其以上的组合物(A)和交联剂(B)的层压层膜、组合物(A)是含有聚噻吩和聚阴离子的组合物，或者是含有聚噻吩衍生物和聚阴离子的组合物，而且，该层压层膜具有在组合物(A)中存在交联剂(B)的海岛结构，由此实现以前达不到的没有湿度变化的高水平抗静电性、而且成为透明性、耐水性、耐划伤性优异的层压薄膜。

公开(公告)号：CN1142848C

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：CN00106720.6

申请日：2000-03-04

Applicant: 帝人株式会社

Inventor： 小林家康 ,  大泽利文

IPC: B29C55/16 ,  B29K67

CPC classification number: B32B27/36 ,  B29C55/023 ,  B29K2067/00 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B2038/0028 ,  B32B2307/518 ,  B32B2367/00 ,  B32B2429/00 ,  G11B5/7305 ,  Y10S428/91 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31786

Abstract: 包括第一聚酯层和第二聚酯层，第二聚酯层含有惰性润滑剂颗粒，第一和第二聚酯层的厚度分别为tA，tB；t＝tA+tB，WRa(A)，WRa(B)分别第一，第二聚酯层暴露表面的中间平均粗糙度(nm)，dB为第二聚酯层中所含惰性细颗粒润滑剂的平均颗粒直径(μm)，以上符号分别满足下述关系：WRa(B)＞WRa(A) (1)，0.5≤tB/t≤0.9 (2)，10＜tg/dB≤60 (3)，t＝3～10μm (4)，tA＝0.3～5μm，tB＝1.5～9μmWRa(B)＞WRa(A) (1)，0.15≤tB/t＜0.5 (2’)，10＜tB/dB≤45 (3’)，t＝4～10μm (4’)，tA＝2～8.5μm，tB＝0.6～5μm的第一，第二双轴取向层合聚酯薄膜及其制造方法和用途。

公开(公告)号：CN1107589C

公开(公告)日：2003-05-07

申请号：CN98802279.6

申请日：1998-06-12

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 冈崎严 ,  中森由佳里 ,  中岛彰二 ,  洼田启 ,  白河有理

IPC: B32B27/36 ,  B29C55/12 ,  C08J5/18 ,  B29K67/00 ,  B29L7/00

CPC classification number: B32B27/08 ,  B29C55/065 ,  B29C55/12 ,  B29C55/143 ,  B29K2067/00 ,  B32B7/12 ,  B32B27/20 ,  B32B27/36 ,  B32B2307/518 ,  B32B2367/00 ,  B32B2429/00 ,  C08J5/18 ,  C08J2367/02 ,  G11B5/7305 ,  Y10S428/91 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24967 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/2804 ,  Y10T428/31786

Abstract: 本发明提供双轴取向聚酯膜，其特征在于它具有至少1层主要由聚对苯二甲酸丙二醇酯形成的膜层的聚酯膜，而且，80℃下30分钟的热收缩率为0.8%以下。该膜具有优异的耐磨性，作为磁记录的介质特别有用。

公开(公告)号：CN103118853B

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：CN201180044039.8

申请日：2011-09-16

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 堀江将人 ,  东大路卓司 ,  横山希

IPC: B29C55/12 ,  C08J5/18

CPC classification number: C08G63/183 ,  B29C55/12 ,  B29K2067/00 ,  B29L2017/008 ,  C08G63/13 ,  C08G63/137 ,  C08G63/189 ,  C08G63/199 ,  C08G63/88 ,  G11B5/7305

Abstract: 本发明提供宽度方向的杨氏模量和长度方向的杨氏模量之比为1.5～3、长度方向、宽度方向和厚度方向的折射率的平均值为1.590～1.680、微小熔解峰温度为160～190℃，以及宽度方向的湿度膨胀系数为0～6ppm/%RH的双轴取向聚酯膜。通过本发明，提供了在变为磁记录介质后，因环境变化而造成的尺寸变化少、保存稳定性优异、切条性、制膜性和工序适合性良好的双轴取向聚酯膜。

公开(公告)号：CN101313357B

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN200680043797.7

申请日：2006-09-21

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 堀江将人 ,  佐藤诚 ,  东大路卓司 ,  中森由佳里 ,  渡边宏聪

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/78

CPC classification number: G11B5/7305

Abstract: 本发明提供一种尺寸稳定性、抗裂性优异的支持体，所述支持体特别是在形成磁记录介质时，能够制得由环境变化所引起的尺寸变化小、出错率少的高密度磁记录介质。本发明的磁记录介质用支持体，是在聚酯薄膜的两面设有含金属系氧化物的层即M层，并且这些M层的厚度均为50～200nm的磁记录介质用支持体，其特征在于，该磁记录介质用支持体的总光线透过率为0～75％，各个表面的表面电阻率为1×102～1×1013Ω。

公开(公告)号：CN1301288C

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN03105259.2

申请日：2003-02-25

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 小野雅章 ,  冈本克哉 ,  深田一吉

IPC: C08J7/04 ,  C08J5/18 ,  B32B27/36 ,  G11B5/73 ,  B29D7/01

CPC classification number: C08J7/047 ,  C08J2367/02 ,  C08J2467/00 ,  G11B5/70 ,  G11B5/7305

Abstract: 本发明涉及下述磁记录媒体用聚酯薄膜，在该磁记录媒体用聚酯薄膜的一侧的表面A上，形成含有微小颗粒和有机化合物的覆盖膜，在该表面A上，存在300万～1亿个/mm2的微小表面突起，并且满足以下的条件(a)，(b)中的至少任何一个条件，该条件指(a)上述微小表面突起的平均直径在5～60nm的范围内，并且上述微小表面突起中的，高度大于等于20nm的微小表面突起的个数小于等于3000个/mm2，(b)上述微小表面突起的平均直径在5～100nm的范围内，上述微小表面突起的平均高度在5～30nm的范围内，并且上述微小表面突起的凝集度小于15%。本发明提供MR头的磨耗很少，行走耐久性良好，而且信号遗失少的磁记录带，和可制造该磁记录带的磁记录媒体用聚酯薄膜。

公开(公告)号：CN1450952A

公开(公告)日：2003-10-22

申请号：CN00819298.7

申请日：2000-03-07

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 恒川哲也 ,  中岛彰二 ,  中森由佳里 ,  琴浦正晃

IPC: B29C59/16 ,  B32B27/36 ,  G11B5/84 ,  G11B5/73

CPC classification number: G11B5/7305 ,  B29C59/16 ,  B29C2035/0827 ,  B29K2067/00 ,  B29K2105/256 ,  B29K2995/0072 ,  B29K2995/0087 ,  B29L2007/008 ,  B29L2017/008 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J2367/02 ,  G11B5/73 ,  G11B5/8404 ,  Y10S428/90 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31786

Abstract: 作为例如数字记录方式的盒式磁带等磁性记录介质的基膜特别有用的聚酯薄膜，及其制造方法。通过在未拉伸阶段或拉伸完成前阶段的薄膜表面照射紫外光，使在该表面中形成细微突起，制造聚酯薄膜。薄膜表面的细微突起是，该表面的十点平均粗糙度Rz和中心线平均粗糙度Ra之比(Rz/Ra)小于20，表层部分的羧基浓度和内部的羧基浓度之比通过细微突起的个数未特定。

公开(公告)号：CN1345034A

公开(公告)日：2002-04-17

申请号：CN01131061.8

申请日：2001-09-10

Applicant: 日本胜利株式会社

Inventor： 菊地贤一

IPC: G11B5/68

CPC classification number: G11B5/735 ,  G11B5/7305 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/25

Abstract: 本发明实现适合于数字信号的记录重放、长时间记录用的薄磁带。通过使非磁性支撑体(基膜)的宽度方向(TD)的杨氏模量在15.6GN/m2以上、19.6GN/m2以下,提供一种可减少磁带行走时等发生的磁带损伤、维持磁带和磁头的良好接触状态的磁带。

公开(公告)号：CN1311507A

公开(公告)日：2001-09-05

申请号：CN00136457.X

申请日：2000-12-25

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 小野雅章 ,  冈本克哉 ,  筑木稔博 ,  森本努

IPC: G11B5/73 ,  G11B5/78

CPC classification number: B32B27/36 ,  B32B15/09 ,  B32B27/00 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B37/153 ,  B32B2038/0028 ,  B32B2305/30 ,  B32B2307/208 ,  B32B2367/00 ,  B32B2429/00 ,  G11B5/7305 ,  G11B5/733 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/25 ,  Y10T428/31786

Abstract: 提供从制品的卷芯部分至表层部分全长电磁变换特性优、记录信号失漏少、适于制数字录像磁带的基膜。至少由聚酯层A和聚酯层B叠层的膜,层A侧表面中心线面平均粗糙度(SRa值)为2～4nm、10点平均面粗糙度(SRz值)为10～40nm、层B中含平均粒径50nm以上不足250nm的微粒α和平均粒径250nm以上不足500nm的微粒β、层B中的微粒α的含量为0.1～1重量%微粒β的含量为0.01～0.1重量%;和层A侧表面设置强磁性金属薄膜的磁记录带。