公开(公告)号：CN105989863A

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201610153971.9

申请日：2016-03-17

申请人： TDK株式会社

发明人： 五十岚克彦 ,  折笠诚 ,  川岛崇 ,  阿部寿之

IPC分类号： G11B5/84

CPC分类号： G11B5/4833 ,  G11B5/4826 ,  G11B5/84 ,  G11B5/8412 ,  G11B5/85 ,  G11B5/851 ,  G11B5/858

摘要： 本发明提供臂及悬架的接合强度优异的磁头装置。磁头装置具备臂、与臂的前端部重叠的悬架、位于悬架的前端部的滑块、以及位于臂的前端部和悬架之间且将臂和悬架接合的接合部，接合部含有Sn。

公开(公告)号：CN102812514B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201180015015.X

申请日：2011-03-31

申请人： HOYA株式会社

发明人： 铃木阳介

IPC分类号： G11B5/84 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00

CPC分类号： G11B5/8412 ,  B08B3/12 ,  B24B37/042 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序和抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，在抛光工序中使用粒径10nm～30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz～1000KHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，然后以30KHz～100KHz的频率进行第二超声波洗涤。

公开(公告)号：CN102812514A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180015015.X

申请日：2011-03-31

申请人： HOYA株式会社

发明人： 铃木阳介

IPC分类号： G11B5/84 ,  C03C19/00 ,  C03C23/00

CPC分类号： G11B5/8412 ,  B08B3/12 ,  B24B37/042 ,  C03C19/00 ,  C03C23/0075 ,  G11B5/8404

摘要： 本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其目的之一在于，即使在玻璃基板的抛光工序中使用粒径小的抛光磨粒、且在抛光工序后的超声波洗涤工序中以高频率进行超声波处理的情况下，也可有效除去玻璃基板表面的颗粒。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括对玻璃基板进行抛光的抛光工序和抛光工序后对玻璃基板进行超声波洗涤的超声波洗涤工序，在抛光工序中使用粒径10nm～30nm的抛光磨粒，在超声波洗涤工序中，以300KHz～1000KHz的频率进行第一超声波洗涤而形成二次粒子，然后以30KHz～100KHz的频率进行第二超声波洗涤。