压电/电致伸缩膜元件及其制作方法

    公开(公告)号:CN1050008C

    公开(公告)日:2000-03-01

    申请号:CN95115342.0

    申请日:1995-08-11

    IPC分类号: H01L41/083 H01L41/22

    CPC分类号: H04R17/08

    摘要: 一种压电/电致伸缩膜元件,它包括一个有至少一个窗口(6,36)和一个用来封闭每个窗口的整体地形成的膜片部(10)的陶瓷基片(2,22),及一个包括按叙述次序在该膜片部的外表面上形成的下电极(12,40)、压电/电致伸缩层(14,42)和上电极(16,44)的压电/电致伸缩单元(18,24)。该压电/电致伸缩层由一个具有不小于0.7μm的晶粒尺寸和不大于15%的孔隙率(X)的致密体组成,而该膜片部具有0~8%的偏移率(Y)。孔隙率(X)和偏移率(Y)满足以下公式:Y≤0.1167X2-3.317X+25.5。

    动圈式立体声拾音头
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105744450A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201510977600.8

    申请日:2015-12-23

    发明人: 宫田光雄

    IPC分类号: H04R9/16

    摘要: 本发明提供一种动圈式立体声拾音头,其具备:包含响应于安装在针臂(14)上的唱针(15)的振动而振动的左右一对线圈(17A、17B)的振动部(13);以及包含磁铁(3)和一对磁轭(4、5)并形成磁路的磁性回路(2)。配置在上述一对磁轭之间的间隙中的线圈(17A、17B)是正圆形的平面线圈,在上述一对磁轭(4、5)上,在将上述线圈置于其间的相对面上分别形成有V字形切口(19),上述V字形切口的交叉角度(θ)所设定的角度使由上述一对线圈得到的左右输出信号的声道分离度在20dB以上。通过上述结构,能够提供一种可获得高生产率和均一的品质,还能够有效地降低串扰的动圈式立体声拾音头。

    电位移致动反射镜阵列及其制造方法

    公开(公告)号:CN1119283A

    公开(公告)日:1996-03-27

    申请号:CN94117144.2

    申请日:1994-10-20

    发明人: 闵雇基

    IPC分类号: G03B21/28

    摘要: 用下述方法组装用在光学投影系统中的M×N块电位移致动的反射镜的一个阵列:1、制备两块全同的陶瓷板;2、在其上形成M条全同的沟槽;3、嵌接在一起构成一陶瓷块;4、研磨其上下表面形成一个复合陶瓷结构;5、分别在其下与上表面上提供M×N个信号电极与M+1个偏压电极;6、安装在一有源矩阵上,构成M×N个致动器的阵列;7、制备平台,以在其上形成光反射层;8、形成光反射层;9、将包含平台的光反射层制成M×N块反射境的一个阵列的图案;10、形成电连接。

    制造电位移致动反射镜阵列的方法

    公开(公告)号:CN1065965C

    公开(公告)日:2001-05-16

    申请号:CN94116459.4

    申请日:1994-09-28

    发明人: 尹东善

    IPC分类号: G02B26/08

    摘要: 光学投影系统中电位移致动反射镜的阵列其形成的方法是:制取有顶和底面的陶瓷薄片;底面上提供第一电极的阵列;顶面上形成第一金属化层;掩模粘结;用喷砂形成致动单元阵列;把陶瓷薄片置在工作矩阵上;去除掩模形成第二金属化层提供第一光致抗蚀剂层;电成形;去除第一光致抗蚀剂层提供第二光致抗蚀剂层;形成平坦顶表面平台提供光反射层;使光反射层图形化形成镜面的阵列;去除第二光致抗蚀剂层,由此形成一种具有电位移致动反射镜的阵列。

    薄膜可驱动反射镜阵列

    公开(公告)号:CN1064135C

    公开(公告)日:2001-04-04

    申请号:CN95104755.8

    申请日:1995-04-28

    发明人: 池政范 金东局

    IPC分类号: G02F1/01 G02B27/18

    摘要: 制造用于光学投影系统的M×N薄膜可驱动反射镜阵列的方法,包括:(a)在有源矩阵的顶部形成待除层;(b)在待除层上形成M×N支持单元阵列;(c)淀积弹性层;(d)形成M×N个导体;(e)淀积第二薄膜层;(f)形成电致位移层;(g)使弹性层、第二层和电致位移层形成图案,形成半完成可驱动反射镜结构阵列;(h)对该阵列做热处理;(i)在各半完成结构上淀积第一薄膜层,形成M×N可驱动反射镜结构阵列;(j)用保护层覆盖各可驱动反射镜结构;(k)去除保护层和待除层。

    薄膜可驱动反射镜阵列

    公开(公告)号:CN1123916A

    公开(公告)日:1996-06-05

    申请号:CN95104755.8

    申请日:1995-04-28

    发明人: 池政范 金东局

    IPC分类号: G02F1/01 G02B27/18

    摘要: 制造用于光学投影系统的M×N薄膜可驱动反射镜阵列的方法,包括:(a)在有源矩阵的顶部形成待除层;(b)在待除层上形成M×N支持单元阵列;(c)淀积弹性层;(d)形成M×N个导体;(e)淀积第二薄膜层;(f)形成电致位移层;(g)使弹性层、第二层和电致位移层形成图案,形成半完成可驱动反射镜结构阵列;(h)对该阵列做热处理;(i)在各半完成结构上淀积第一薄膜层,形成M×N可驱动反射镜结构阵列;(j)用保护层覆盖各可驱动反射镜结构;(k)去除保护层和待除层。

    制造电位移致动反射镜阵列的方法

    公开(公告)号:CN1116718A

    公开(公告)日:1996-02-14

    申请号:CN94116459.4

    申请日:1994-09-28

    发明人: 尹东善

    IPC分类号: G02B27/18

    摘要: 光学投影系统中电位移致动反射镜的阵列其形成的方法是:制取有顶和底面的陶瓷薄片;底面上提供第一电极的阵列;顶面上形成第一金属化层;掩模粘结;用喷砂形成致动单元阵列;把陶瓷薄片置在工作矩阵上;去除掩模形成第二金属化层提供第一光致抗蚀剂层;电成型;去除第一光致抗蚀剂层提供第二光致抗蚀剂层;形成平坦顶表面平台提供光反射层;使光反射层图形化形成镜面的阵列;去除第二光致抗蚀剂层,由此形成一种具有电位移致动反射镜的阵列。