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    数控加工方法和数控加工设备
    1.
    发明授权
    数控加工方法和数控加工设备 有权

    公开(公告)号：CN113721551B

    公开(公告)日：2024-09-10

    申请号：CN202010456287.4

    申请日：2020-05-26

    申请人： 沈机(上海)智能系统研发设计有限公司

    发明人： 朱志浩 ,  朱蓓 ,  赵建华 ,  邱明勇 ,  杨锦涛 ,  邹志强

    IPC分类号： G05B19/4099 ,  G05B19/41

    摘要： 本发明提供一种数控加工方法和数控加工设备，所述方法包括以下步骤：1)连续微段识别：根据待加工程序段的编程点间的长度和矢量角来识别需要平滑压缩的连续微段部分；2)节点矢量参数化：对需要平滑压缩的连续微段部分，对编程点进行参数化，获取与编程点对应的节点矢量参数；3)一阶切矢求解：通过连续4个编程点构造插值曲线来计算与编程点对应的一阶切矢；4)平滑压缩程序段：根据待平滑压缩的连续微段的编程点指令值和对应的一阶切矢值，将编程点压缩成样条曲线；检验编程点到对应样条点的欧氏距离是否满足加工精度，相应调整控制点来进行误差控制。本发明的一种数控加工方法和数控加工设备，用于在精度范围内平滑加工轨迹。

    用于打印3D对象的打印机
    2.
    发明授权
    用于打印3D对象的打印机 有权

    公开(公告)号：CN111819505B

    公开(公告)日：2024-07-26

    申请号：CN201980017842.9

    申请日：2019-02-05

    申请人： 创真股份公司

    发明人： J·P·盖伊 ,  Z·T·沃伊道

    IPC分类号： G05B19/4099

    摘要： 一种用于基于计算机模型打印3D对象的打印机，该打印机包括用于挤出或固化材料的工具、支撑对象的层的平台；限定层的形状的运动结构，以及被配置为形成要遵循的用于制作对象的路径的控制器。为了提高制作对象的速度和精度中的至少一个，控制器被配置为通过限定多个线段并通过限定用于插入在线段之间的过渡段来限定路径。控制器还被配置为仅要求沿着线段代替沿着过渡段的材料沉积。

    管理系统、建模管理系统、管理方法和程序
    6.
    发明公开
    管理系统、建模管理系统、管理方法和程序 审中-实审

    公开(公告)号：CN116324646A

    公开(公告)日：2023-06-23

    申请号：CN202180068096.3

    申请日：2021-11-09

    申请人： 株式会社理光

    发明人： 进藤秀规

    IPC分类号： G05B19/4099

    摘要： 管理系统被配置为管理被配置为执行用于生成三维建模对象的建模过程的装置。该管理系统包括装置数据获取单元和状态确定单元。装置数据获取单元被配置为获取关于装置的操作的装置数据。状态确定单元被配置为使用获取的装置数据和与待管理的装置的参考状态对应的参考数据来确定装置的状态。

    用于结构设计的命令处理系统和方法
    7.
    发明授权
    用于结构设计的命令处理系统和方法 有权

    公开(公告)号：CN108027842B

    公开(公告)日：2022-11-04

    申请号：CN201680052105.9

    申请日：2016-09-08

    申请人： 卡特彼勒公司

    发明人： T·S·格里卫蒂

    IPC分类号： G06F30/13 ,  G06Q30/06 ,  G05B19/4099 ,  B33Y50/02

    摘要： 一种方法(700)包括：在基于计算机的系统(600)处接收多个设计文件，其中，每个设计文件指示相应的结构设计(404)，与该相应的结构设计(404)相关联的结构值以及与该相应的结构设计的设计师(404)相关联的源标识符；使结构设计(404)的至少一部分的图形表示显示给用户；接收对所显示的结构设计(404)的第一结构设计(404)的用户选择；以预定义格式生成指示第一结构设计(404)的增量制造文件，其中，该预定义格式使得能够通过增量制造过程将增量制造文件处理成物理结构；以该预定义格式传送选择的第一结构设计(404)；以及至少基于结构值、源标识符以及一个或多个附加参数，由基于计算机的系统确定与所选择的第一结构设计(404)相关联的使用费值。

    用于使多束照射系统对准的方法
    8.
    发明授权
    用于使多束照射系统对准的方法 有权

    公开(公告)号：CN111867754B

    公开(公告)日：2022-10-28

    申请号：CN201880091414.6

    申请日：2018-02-20

    申请人： SLM方案集团股份公司

    发明人： 丹尼尔·布吕克

    IPC分类号： B22F10/28 ,  B23K15/00 ,  B23K26/04 ,  G05B19/4099 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/277 ,  B29C64/268 ,  H01J37/317 ,  G05B19/401

    摘要： 一种用于使多束照射系统(20)对准的方法，该多束照射系统被用在用于通过以电磁或粒子辐射照射原料粉末层来生产三维工件的设备(10)中，该方法包括以下步骤：i)将第一原料粉末层施加到载架(16)上，以限定出要被由照射系统(20)发射的辐射束(24a，24b)照射的照射平面(S)；ii)使用由照射系统(20)的经校准的第一照射单元(22a)发射的第一辐射束(24a)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第一测试结构(34)；iii)使用由照射系统(20)的经校准的第二照射单元(22b)发射的第二辐射束(24b)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第二测试结构(36)；iv)确定第一测试结构和第二测试结构(34，36)之间在照射平面(S)中的偏移(dxt，dyt)；以及v)基于所确定的第一测试结构和第二测试结构(34，36)之间的偏移(dxt，dyt)，使经校准的第一照射单元和第二照射单元(22a，22b)中的至少一个对准，使得偏移不超过阈值。