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公开(公告)号：CN110475633A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201880020170.2
申请日：2018-01-15
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105 , B33Y50/02 , B29C64/153 , B29C64/277
摘要： 本发明涉及一种用于控制辐照系统(20)的方法，其中，该辐照系统(20)使用在用于增材制造三维工件的设备(10)中，并包括至少三个辐照单元(22a-d，50)，其中，该方法包括以下步骤：a)针对辐照单元(22a-d，50)中的每一个限定辐照区域(30a-d)，其中，该辐照区域(30a-d)各自包括平行于设备(10)的承载器(16)延伸的辐照平面(28)的部分，并且其中，对辐照区域(30a-d)进行限定使得其在公共交叠区域(34)中交叠；b)辐照在承载器(16)上的原料粉末层以生成工件层；c)在已经辐照的原料粉末层上布置另外的原料粉末层以生成另外的工件层。d)本发明还涉及一种用于执行该方法的设备。
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公开(公告)号：CN106964773A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201611001905.6
申请日：2016-11-14
申请人： SLM方案集团股份公司
发明人： 安德烈·赫尔曼 , 托尼·亚当·克洛尔 , 安德里亚斯·维斯纳 , 简·威尔克斯 , 博多·哈克 , 卡斯滕·胡宾格 , 彼得·克尔纳 , 西蒙·米勒 , 卡伊·默滕·贝里格伦 , 乔纳斯·梅尔施
CPC分类号： B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B22F2003/1059 , B23K15/0026 , B23K15/0086 , B23K26/16 , B23K26/342 , B23K26/702 , B29C64/153 , B29C64/35 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , Y02P10/295 , B22F3/105 , B28B1/00 , B33Y10/00
摘要： 用在通过用电磁或粒子辐射对原料粉末层辐照来制造三维工件的设备(10)中的拆离装置(28)，该拆离装置包括构造成保持构建室结构体(26)的保持装置(32)。构建室结构体包括容纳承载件(16)的构建室(20)，承载件构造成接收通过增材分层工艺从原料粉末制造的三维工件(18)。拆离装置的接合单元(38)构造成与构建室结构体的承载件接合。移动机构(48)构造成引起构建室和接合单元连同与之接合的承载件之间的相对移动，以允许其上接收有三维工件的承载件与构建室分离。最后，拆离装置包括原料粉末移除机构(50)，构造成引起接合单元连同所接合的承载件的振动和旋转中至少之一，以从接收在承载件上的三维工件移除残余原料粉末(24)。
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公开(公告)号：CN110446573B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201880019852.1
申请日：2018-02-09
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105 , B23K26/04 , B29C64/153 , B29C64/20 , B29C64/393 , B29C64/268 , G05B19/401 , G05B19/4099 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , G01S5/16
摘要： 本发明涉及一种用于逐层制造三维工件的装置(10)，包括：构建空间(30)，在该构建空间中，能够通过对原料粉末层进行选择性固化来制造工件；辐照系统(20)，该辐照系统被适配成通过发射处理光束在该构建空间(30)中选择性地固化原料粉末层；至少一个校准结构(36)；传感器排列(25)，该传感器排列被适配成检测辐照系统(20)对校准结构(36)的辐照；和控制单元(26)，该控制单元被适配成基于传感器排列的检测信息来对辐照系统(20)进行校准，该校准结构(36)被布置在构建空间(30)的外部。本发明还涉及一种用于对逐层制造三维工件的装置的辐照系统进行校准的方法。
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公开(公告)号：CN109890538B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN201780062348.5
申请日：2017-10-25
申请人： SLM方案集团股份公司
摘要： 设备(10)包括处理室(12)，该处理室容纳用于容置原材料粉末的承载器(14)。设备(10)的辐照装置(16)被构造成选择性地将电磁辐射或粒子辐射照射到承载器(14)上的原材料粉末上，以便通过增材逐层构造方法生产工件，其中，传输元件(22)允许电磁辐射或粒子辐射传输到处理室(12)中。设备(10)进一步包括用于将气体供应到处理室(12)的气体入口(26)和用于从处理室排出气体的气体出口(32)，该气体入口和气体出口被构造成产生保护气体流(F1，F2)，以用于保护传输元件(22)免受存在于处理室(12)中的杂质污染。气体入口(26)包括形成气体入口区域(A)的可透气的多孔部件(36)。
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公开(公告)号：CN109890538A
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：CN201780062348.5
申请日：2017-10-25
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105 , B29C67/00 , B29C64/153 , B29C64/20
摘要： 设备(10)包括处理室(12)，该处理室容纳用于容置原材料粉末的承载器(14)。设备(10)的辐照装置(16)被构造成选择性地将电磁辐射或粒子辐射照射到承载器(14)上的原材料粉末上，以便通过增材逐层构造方法生产工件，其中，传输元件(22)允许电磁辐射或粒子辐射传输到处理室(12)中。设备(10)进一步包括用于将气体供应到处理室(12)的气体入口(26)和用于从处理室排出气体的气体出口(32)，该气体入口和气体出口被构造成产生保护气体流(F1，F2)，以用于保护传输元件(22)免受存在于处理室(12)中的杂质污染。气体入口(26)包括形成气体入口区域(A)的可透气的多孔部件(36)。
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公开(公告)号：CN113853261B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202080037285.X
申请日：2020-03-31
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105
摘要： 本文描述了一种用于校准添加层制造装置的一个或多个光学元件的校准方法，添加层制造装置能用于生产三维工件，该方法包括：使用一个或多个光学元件将光学图案投射到材料上，以使用添加层制造技术从所述材料制备固化材料层以形成测试样本；确定测试样本的几何形状；将所确定的几何形状与标称几何形状进行比较以产生校准数据；以及使用所述校准数据校准所述一个或多个光学元件。
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公开(公告)号：CN113853261A
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202080037285.X
申请日：2020-03-31
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105
摘要： 本文描述了一种用于校准添加层制造装置的一个或多个光学元件的校准方法，添加层制造装置能用于生产三维工件，该方法包括：使用一个或多个光学元件将光学图案投射到材料上，以使用添加层制造技术从所述材料制备固化材料层以形成测试样本；确定测试样本的几何形状；将所确定的几何形状与标称几何形状进行比较以产生校准数据；以及使用所述校准数据校准所述一个或多个光学元件。
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公开(公告)号：CN108068342B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201711124997.1
申请日：2017-11-14
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B29C64/393 , B29C64/371 , B29C64/20 , B29C64/153 , B29C64/295 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02
摘要： 本公开提供用于生产三维工件的设备和操作该设备的方法。该设备包括处理室(14)和照射装置(20)，处理室容纳有接收原料粉末(18)的承载件(16)，照射装置选择性地将电磁辐射或粒子辐射照射到施加在承载件(16)上的原料粉末(18)上，以便通过增材层叠构造法由所述原料粉末(18)生产工件(12)，照射装置(20)包括至少一个辐射源(22，24)和具有多个光学元件(28，34)的至少一个光学单元(26，32)。传热装置(38)被配置成将由热源(40)产生的热传递至照射装置(20)的至少一个光学单元(26，32)。该设备还包括控制单元(42)，该控制单元被配置成控制传热装置(38)，以调节照射装置(20)的至少一个光学单元(26，32)的温度。
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公开(公告)号：CN108068342A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201711124997.1
申请日：2017-11-14
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B29C64/393 , B29C64/371 , B29C64/20 , B29C64/153 , B29C64/295 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/02
CPC分类号： B29C64/264 , B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B22F2999/00 , B29C35/08 , B29C64/153 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , Y02P10/295 , B22F2203/11 , B22F2203/03 , B33Y40/00 , B33Y50/02
摘要： 本公开提供一种用于生产三维工件(12)的设备(10)，包括处理室(14)和照射装置(20)，处理室容纳有用于接收原料粉末(18)的承载件(16)，照射装置用于选择性地将电磁辐射或粒子辐射照射到施加在承载件(16)上的原料粉末(18)上，以便通过增材层叠构造法由所述原料粉末(18)生产工件(12)，照射装置(20)包括至少一个辐射源(22，24)和具有多个光学元件(28，34)的至少一个光学单元(26，32)。传热装置(38)被配置成将由热源(40)产生的热传递至照射装置(20)的至少一个光学单元(26，32)。该设备还包括控制单元(42)，该控制单元被配置成控制传热装置(38)，以调节照射装置(20)的至少一个光学单元(26，32)的温度。
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公开(公告)号：CN110475633B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201880020170.2
申请日：2018-01-15
申请人： SLM方案集团股份公司
IPC分类号： B22F3/105 , B33Y50/02 , B29C64/153 , B29C64/277
摘要： 本发明涉及一种用于控制辐照系统(20)的方法，其中，该辐照系统(20)使用在用于增材制造三维工件的设备(10)中，并包括至少三个辐照单元(22a‑d，50)，其中，该方法包括以下步骤：a)针对辐照单元(22a‑d，50)中的每一个限定辐照区域(30a‑d)，其中，该辐照区域(30a‑d)各自包括平行于设备(10)的承载器(16)延伸的辐照平面(28)的部分，并且其中，对辐照区域(30a‑d)进行限定使得其在公共交叠区域(34)中交叠；b)辐照在承载器(16)上的原料粉末层以生成工件层；c)在已经辐照的原料粉末层上布置另外的原料粉末层以生成另外的工件层。d)本发明还涉及一种用于执行该方法的设备。
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