一种基于二维绝缘材料的多层真空纳米沟道晶体管

    公开(公告)号:CN113643949A

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202110920178.8

    申请日:2021-08-11

    申请人: 东南大学

    IPC分类号: H01J21/14 B82Y10/00

    摘要: 本发明公开了一种基于二维绝缘材料的多层真空纳米沟道晶体管,该多层真空纳米沟道晶体管自下而上依次包括绝缘衬底、栅极、二维绝缘体、发射极以及收集极;所述真空纳米沟道,所述二维绝缘材料,指代以六方氮化硼(h‑BN)为代表的二维纳米材料,具有优异的稳定性、平坦的表面和理想的绝缘性能;所述真空纳米沟道晶体管,载流子在栅极的偏置电压调控下,以场致电子发射或隧穿的形式在真空纳米沟道内部弹道输运;所述真空纳米沟道晶体管,仍保留传统电真空器件的固有优势,具有高稳定性和抗辐照特性,所述器件可以在高温、辐射等极端环境下正常工作。

    一种基于二维绝缘材料的多层真空纳米沟道晶体管

    公开(公告)号:CN113643949B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202110920178.8

    申请日:2021-08-11

    申请人: 东南大学

    IPC分类号: H01J21/14 B82Y10/00

    摘要: 本发明公开了一种基于二维绝缘材料的多层真空纳米沟道晶体管,该多层真空纳米沟道晶体管自下而上依次包括绝缘衬底、栅极、二维绝缘体、发射极以及收集极;所述真空纳米沟道,所述二维绝缘材料,指代以六方氮化硼(h‑BN)为代表的二维纳米材料,具有优异的稳定性、平坦的表面和理想的绝缘性能;所述真空纳米沟道晶体管,载流子在栅极的偏置电压调控下,以场致电子发射或隧穿的形式在真空纳米沟道内部弹道输运;所述真空纳米沟道晶体管,仍保留传统电真空器件的固有优势,具有高稳定性和抗辐照特性,所述器件可以在高温、辐射等极端环境下正常工作。

    一种栅状空气沟道晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN115497785B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202211107704.X

    申请日:2022-09-13

    IPC分类号: H01J21/10 H01J21/14 H01J9/00

    摘要: 本发明公开了一种栅状空气沟道晶体管及其制备方法,包括电极一、介质层一、电极二、介质层二、栅阻挡介质、电极三、基板以及沟道,电极一、介质层一、电极二、介质层二、电极三、基板依次从上至下设置,沟道贯穿电极一、介质层一、电极二、介质层二,多个所述沟道使各层薄膜形成栅状结构,所述栅阻挡介质与所述电极二位于同层。本发明增加栅极阻挡层介质结构,有效减小栅极泄露电流;多个沟道形成栅状结构有效增加电子发射面积,提升同等尺寸晶体管的沟道电流。

    一种栅状空气沟道晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN115497785A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211107704.X

    申请日:2022-09-13

    IPC分类号: H01J21/10 H01J21/14 H01J9/00

    摘要: 本发明公开了一种栅状空气沟道晶体管及其制备方法,包括电极一、介质层一、电极二、介质层二、栅阻挡介质、电极三、基板以及沟道,电极一、介质层一、电极二、介质层二、电极三、基板依次从上至下设置,沟道贯穿电极一、介质层一、电极二、介质层二,多个所述沟道使各层薄膜形成栅状结构,所述栅阻挡介质与所述电极二位于同层。本发明增加栅极阻挡层介质结构,有效减小栅极泄露电流;多个沟道形成栅状结构有效增加电子发射面积,提升同等尺寸晶体管的沟道电流。