公开(公告)号：CN118974656A

公开(公告)日：2024-11-15

申请号：CN202380031228.4

申请日：2023-03-27

申请人： 太阳控股株式会社

发明人： 高桥勉 ,  加藤文崇 ,  德光香代子 ,  伊藤那月 ,  冈本大地 ,  志村优之

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/075 ,  H05K1/03

摘要： 本发明提供一种感光性树脂组合物的固化物，其含有无机填料且分辨率优异，并且能够抑制在安装电子部件时基板的翘曲。其是一种至少包含碱可溶性树脂、光聚合引发剂、无机填料而构成的感光性树脂组合物的固化物，相对于感光性树脂组合物整体以85质量％以下的比例包含所述无机填料，所述固化物的弹性模量是4～12GPa。当将所述固化物在25℃、相对湿度10％的环境下放置了60分钟后的所述固化物的吸水率设为A(％)、将所述固化物在25℃、相对湿度60％的环境下放置了60分钟后的所述固化物的吸水率设为B(％)的情况下，满足A≤0.3％且B‑A≤0.3。

公开(公告)号：CN118915391A

公开(公告)日：2024-11-08

申请号：CN202410977367.2

申请日：2024-07-19

申请人： 波米科技有限公司

发明人： 公聪聪 ,  贾杰 ,  李铭新 ,  杜孟成

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  H01L23/29 ,  H01L23/532

摘要： 本发明公开了一种含氮杂环聚硅氧烷的感光性树脂组合物及其应用，所述感光性树脂组合物包括前驱体树脂、含氮杂环的聚硅氧烷、硅烷偶联剂、感光助剂、交联剂和溶剂。通过特定的树脂结构及含氮杂环的聚硅氧烷的加入，本发明得到的感光性树脂组合物可表现出优异的介电性能和低热膨胀系数。

公开(公告)号：CN118786388A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202280092773.X

申请日：2022-12-08

申请人： 塔科马科技有限公司

发明人： 柳美善 ,  朴阵圭

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  C08F230/08 ,  C08F220/18

摘要： 本发明涉及即使在亚248nm和193nm的短波长曝光源下也对显影剂具有高溶解性和良好抗蚀刻性并且形成低线边缘粗糙度的光敏树脂。本发明也涉及包含该光敏树脂的光致抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：CN110297398B

公开(公告)日：2024-10-08

申请号：CN201910220518.9

申请日：2019-03-22

申请人： 信越化学工业株式会社

发明人： 市冈扬一郎

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/00 ,  G03F7/09

摘要： 本发明为感光树脂组合物、感光树脂层合体和图案形成方法。提供了感光树脂组合物，其包含100pbw的含有伯醇羟基的聚酰亚胺有机硅、交联剂、光致产酸剂、多官能环氧化合物、1‑70pbw的具有0.01‑20.0μm的平均粒度的填料和0.01‑30pbw的着色剂。所述树脂组合物是着色的和感光的并且固化成具有改进的模量的产物。

公开(公告)号：CN113474730B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202080016528.1

申请日：2020-03-02

申请人： 东丽株式会社

发明人： 福崎雄介 ,  妹尾将秀

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/075 ,  G06F3/041

摘要： 本发明的课题在于提供一种负型感光性树脂组合物，其解像度高且即便在150℃以下的低温下固化也可形成铅笔硬度高、耐化学品性、耐候性优异、可抑制电极或布线加工时外放气体产生的固化膜。本发明为一种负型感光性树脂组合物其含有：(A)具有自由基聚合性基的硅氧烷树脂；(B)具有自由基聚合性基的单体；以及(C)光自由基聚合引发剂，其在波长350～370的区域具有吸收峰，波长400下的吸光度为波长365下的吸光度的10％以下。

公开(公告)号：CN117111405B

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202310978758.1

申请日：2023-08-04

申请人： 西南科技大学

发明人： 杨军校 ,  胡鑫雨 ,  马佳俊 ,  彭娟 ,  杜翰林

IPC分类号： G03F7/075 ,  C08G77/20

摘要： 本发明公开了一种线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂的制备及光刻图案化的应用，其由二甲氧基(甲基)(苯并环丁烯基乙烯基)硅烷类线性聚合物、光引发体系和有机溶剂配制形成光敏溶液，通过光敏溶液制备光敏薄膜，即用于光刻图案化的线性聚硅氧烷低介电损耗光敏树脂。本发明的光敏体系光固化后所得的图案具有较高的清晰度，通过光/热双交联过程，所得的薄膜具有较高的热稳定性；同时在热处理过程中，未反应的光引发剂会热分解，不会影响薄膜的介电性能；本发明提供的线性聚硅氧烷光敏树脂，具有比较优异的介电性能(10GHz，Dk:2.7，Df：0.002～0.003)、耐热性(T5％:450℃)以及化学稳定性，有望应用于微电子领域。

公开(公告)号：CN112639617B

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202080004834.3

申请日：2020-06-29

申请人： 株式会社LG化学

发明人： 张锡勋 ,  金宪 ,  权洗铉 ,  张影来

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03H1/02

摘要： 本公开内容涉及光聚合物组合物，使用其的全息图记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含具有预定化学结构的聚合物基体或其前体；光反应性单体；和光引发剂。

公开(公告)号：CN112689800B

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN201980059533.8

申请日：2019-09-09

申请人： 住友电木株式会社

发明人： 北畑太郎

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08G69/26 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20

摘要： 本发明的一个方式的永久膜形成用感光性树脂组合物含有碱溶性树脂(A)、感光剂(B)和表面活性剂(C)，表面活性剂(C)包含由下述式(1)表示的有机改性二甲基硅氧烷。式(1)中，X表示聚醚基、聚酯基或芳烷基，m、n分别表示1以上100以下的整数。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118359654A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202310057379.9

申请日：2023-01-17

申请人： 北京鼎材科技有限公司

发明人： 韩红彦 ,  刘永祥 ,  杨鹏 ,  刘亨严

IPC分类号： C07F7/18 ,  G03F7/075

摘要： 本发明提供一种硅烷类化合物及其应用、感光性树脂组合物，所述硅烷类化合物具有如式I、式II、式III、式IV任一项所示结构，其为多官能度的化合物，能够与基板形成稳定的粘结，同时具有良好的反应活性和优异的耐热性，高温处理后保持优良的作用效果，能够显著提升包含其的感光性树脂组合物/薄膜与基板间的粘结性和附着力，从而改善器件的可靠性。

公开(公告)号：CN118259558A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202410375298.8

申请日：2024-03-29

申请人： 之江实验室

发明人： 高秀君 ,  丁晨良 ,  王权 ,  匡翠方

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F1/26 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075

摘要： 本发明公开了一种基于轴向分辨率压缩优化刻写结构表面粗糙度的方法；该方法通过引入0‑π相位掩膜调制的边缘抑制光，实现刻写结构横向和轴向分辨率的提升；同时，在光刻胶组合物中添加自由基抑制剂，进一步提高刻写的空间分辨率；本发明将光抑制效应与化学抑制效应相结合，实现平面圆盘、微透镜表面粗糙度的降低，且规避了由于轴向分辨率过低引发的弯曲轮廓器件表面的台阶状痕迹；本发明能为复杂光学器件制备中表面粗糙度的优化提供基础。