公开(公告)号：EP2495613B1

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：EP12169023.4

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  De Smit, Joannes Theodoor ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Van Santen, Helmar ,  Derksen, Antonius ,  Hoogendam, Christiaan ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik ,  Modderman, Theodorus ,  Mulkens, Johannes ,  Ritsema, Roelof ,  Simon, Klaus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7088

公开(公告)号：EP2267536B1

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：EP10180248.6

申请日：2004-10-26

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Hoogendam, Christiaan ,  Bijlaart, Erik ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik ,  Mertens, Jeroen ,  Mulkens, Johannes ,  Slaghekke, Bernardus ,  Streefkerk, Bob ,  Tinnemans, Patricius ,  Van Santen, Helmar

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70866

公开(公告)号：EP2267536A1

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：EP10180248.6

申请日：2004-10-26

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Hoogendam, Christiaan ,  Bijlaart, Erik ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik ,  Mertens, Jeroen ,  Mulkens, Johannes ,  Slaghekke, Bernardus ,  Streefkerk, Bob ,  Tinnemans, Patricius ,  Van Santen, Helmar

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70808 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70866

摘要： Liquid is supplied to a reservoir between the final element of the projection system (PS) and the substrate by an inlet (23). An overflow removes the liquid above a given level. The overflow is arranged above the inlet and thus the liquid is constantly refreshed and the pressure in the liquid remains substantially constant.

摘要翻译： 液体通过入口（23）供应到投影系统（PS）的最终元件和基板之间的储存器。 溢出物将液体移至高于给定水平的位置。 溢流口布置在入口的上方，因此液体不断刷新，并且液体中的压力基本保持不变。

公开(公告)号：EP2495613A1

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：EP12169023.4

申请日：2003-11-10

申请人： ASML Netherlands B.V.

发明人： Lof, Joeri ,  De Smit, Joannes Theodoor ,  Straaijer, Alexander ,  Streefkerk, Bob ,  Van Santen, Helmar ,  Derksen, Antonius ,  Hoogendam, Christiaan ,  Kolesnychenko, Aleksey ,  Loopstra, Erik ,  Modderman, Theodorus ,  Mulkens, Johannes ,  Ritsema, Roelof ,  Simon, Klaus

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/707 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/7088

摘要： In a lithographic projection apparatus a seal member (12) surrounds a space between the final element of a projection system (PL) and a substrate (W) of the lithographic projection apparatus. A gas seal (16) is formed between said seal member and the surface of said substrate to contain liquid (11) in the space.

摘要翻译： 在光刻投影装置中，密封构件（12）围绕投影系统（PL）的最终元件和光刻投影装置的基板（W）之间的空间。 在所述密封构件和所述基板的表面之间形成有气体密封件（16），以在该空间中容纳液体（11）。