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1.

发明授权
METHOD FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION, DESIGN AND MANUFACTURING OF A RETICLE USING VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY 有权
标题翻译： VERFAHREN ZUR KORREKTUR VON OPTISCHEN NAHEFFEKTEN，ENTWURF UND HERSTELLUNG EINES RETIKELS MITTELS LITHOGRAPHIE MIT UNTERSCHIEDLICH GEFORMTEN STRAHLEN

公开(公告)号：EP2321840B1

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：EP09810441

申请日：2009-08-10

申请人： D2S INC

发明人： FUJIMURA AKIRA , GLASSER LANCE

IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/36 , G03F1/78 , G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/34

CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F1/36 , G03F1/68 , G03F1/78 , H01J37/3174

2.

发明公开
METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS USING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：方法和系统模式的生产中使用承载器射线光刻

公开(公告)号：EP2681760A4

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：EP12751849

申请日：2012-02-15

申请人： D2S INC

发明人： FUJIMURA AKIRA , ZABLE HAROLD ROBERT

IPC分类号： H01J37/302 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31776

3.

发明公开
METHOD FOR OPTICAL PROXIMITY CORRECTION, DESIGN AND MANUFACTURING OF A RETICLE USING VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY 有权
标题翻译：方法用不同形状的束光刻光学邻近校正与设计和制造一个线程交叉的

公开(公告)号：EP2321840A4

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：EP09810441

申请日：2009-08-10

申请人： D2S INC

发明人： FUJIMURA AKIRA , GLASSER LANCE

IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/36 , G03F1/78 , G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/34

CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F1/36 , G03F1/68 , G03F1/78 , H01J37/3174

4.

发明公开
METHOD AND SYSTEM FOR FORMING PATTERNS WITH CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：方法和系统模式的生产中使用承载器射线光刻

公开(公告)号：EP2724197A4

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：EP12804558

申请日：2012-06-19

申请人： D2S INC

发明人： FUJIMURA AKIRA , BORK INGO

IPC分类号： G03F1/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , G03F7/20 , H01J37/317 , H01L21/027

CPC分类号： G03F7/2037 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , G03F1/78 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31771 , H01J2237/31776 , H01L21/027 , Y10S430/143

5.

发明公开
METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZATION OF AN IMAGE ON A SUBSTRATE TO BE MANUFACTURED USING OPTICAL LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：方法和系统用于优化图像的光学光刻技术的手段来完成ENDS衬底

公开(公告)号：EP2758986A4

公开(公告)日：2015-08-19

申请号：EP12833285

申请日：2012-09-10

申请人： D2S INC

发明人： FUJIMURA AKIRA

IPC分类号： G03F1/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/36 , G03F1/78 , G03F7/20 , H01J37/317 , H01L21/027

CPC分类号： G03F1/36 , G03F7/70441 , G03F7/705 , H01J2237/31764 , H01J2237/31771 , H01J2237/31776

6.

发明公开
STENCIL DESIGN AND METHOD FOR CELL PROJECTION PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：瑞士法兰克福瑞士法国瑞士法兰西斯保加利亚州ZURPROJEKTION

公开(公告)号：EP2092534A4

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：EP07864589

申请日：2007-11-19

申请人： D2S INC

发明人： YOSHIDA KENJI , MITSUHASHI TAKASHI , MATSUSHITA SHOHEI , FUJIMURA AKIRA

IPC分类号： G21K5/10 , G03F1/16 , H01J37/317

CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20