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发明公开
IODINE-CONTAINING COMPOUNDS FOR ETCHING SEMICONDUCTOR STRUCTURES 审中-公开

公开(公告)号：EP3563406A1

公开(公告)日：2019-11-06

申请号：EP17889218.8

申请日：2017-12-29

申请人： L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： SURLA, Vijay , GUPTA, Rahul , SUN, Hui , PALLEM, Venkateswara R. , STAFFORD, Nathan , MARCHEGIANI, Fabrizio , OMARJEE, Vincent M. , ROYER, James

IPC分类号： H01L21/311 , H01L21/3065 , H01L21/308 , H01L27/115